[发明专利]基于氧化石墨烯/石墨烯/硅的湿度传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510442046.3 申请日: 2015-07-24
公开(公告)号: CN105136860A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 徐杨;施添锦;万霞;王锋;王雪;俞滨;骆季奎 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01N27/00 分类号: G01N27/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 韩介梅
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于氧化石墨烯/石墨烯/硅异质结构的湿度传感器及其制备方法,所述的湿度传感器包括为n型硅基体、硅窗口、二氧化硅绝缘层、石墨烯、氧化石墨烯、顶电极和底电极。本发明形成的石墨烯/硅肖特基结除了具有多子传输速度快,反应灵敏外还由于石墨烯的高透明,高导电,高导热,高机械强度而适用于超常规条件下的各种特殊应用。运用氧化石墨烯来作为湿度敏感层,来影响石墨烯/硅肖特基结电学特性,这种结构的湿度传感器,制作简便,能快速简便测量,灵敏度高,可与成熟的半导体硅技术结合封装制备成集成传感器,市场化前景可观。
搜索关键词: 基于 氧化 石墨 湿度 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
基于氧化石墨烯/石墨烯/硅异质结构的湿度传感器,其特征在于,自下而上依次有底电极(7)、n型硅基体(1)、二氧化硅隔离层(2),所述的二氧化硅隔离层(2)上开有窗口(3),二氧化硅隔离层上表面设有顶电极(4),顶电极(4)上叠盖有单层石墨烯(5)和氧化石墨烯薄膜层(6),单层石墨烯(5)与窗口(3)内的n型硅基体接触形成石墨烯/硅肖特基结,顶电极(4)的边界小于二氧化硅隔离层(2)的边界,单层石墨烯(5)和氧化石墨烯薄膜层(6)的边界均小于顶电极(4)的外边界。
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