[发明专利]一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置

摘要

本发明公开了一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置。在浸没单元基体上开有中心锥孔，底面开有垂直气液回收腔和注气腔，浸没单元基体开有水平注液口和、水平液体回收口、注气口和垂直气液回收口；浸没单元下端盖上开有中心通孔，浸没单元下端盖顶面开有垂直气液回收孔槽和气密封孔槽；垂直气液回收孔槽上开有垂直气液回收孔，气密封孔槽开有气密封孔，其个微孔均位于相邻道垂直回收孔中最紧邻的两个微孔中垂线上。本发明完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封功能，通过垂直回收的回收负压和气密封的气体流，约束浸没液体的流场边界，保证光刻机在高速运转过程中浸没液体不发生泄漏。

主权项

一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置，在浸没式光刻机的投影物镜组(1)和硅片(7)之间设置有垂直回收和气密封装置(2)，所述垂直回收和气密封装置(2)包括浸没单元基体(2A)和浸没单元下端盖(2B)，其特征在于：1)浸没单元基体(2A)：在浸没单元基体(2A)上开有中心锥孔，中心锥孔向外的浸没单元基体(2A)底面依次开有同心圆环的垂直气液回收腔(5C)和注气腔(5D)，浸没单元基体(2A)四边中相对称的两侧面分别开有水平注液口(3A)和水平液体回收口(3B)，浸没单元基体(2A)四边中相对称的另外两侧面分别开有注气口(3D)，水平注液口(3A)和水平液体回收口(3B)两侧的浸没单元基体(2A)上均开有垂直气液回收口(3C)；2)浸没单元下端盖(2B)：浸没单元下端盖(2B)上开有中心通孔，中心通孔向外的浸没单元下端盖(2B)顶面依次开有同心圆环的垂直气液回收孔槽和气密封孔槽，垂直气液回收孔槽和气密封孔槽分别与浸没单元基体(2A)的垂直气液回收腔(5C)和注气腔(5D)对应相通；垂直气液回收孔槽上开有多道沿圆周间隔均布的微孔作为垂直气液回收孔(6A)，气密封孔槽开有一道沿圆周间隔均布的微孔作为气密封孔(6B)，垂直气液回收孔(6A)的每个微孔均位于相邻道垂直气液回收孔(6A)中最紧邻的两个微孔中点连线的中垂线上，气密封孔(6B) 的每个微孔均位于最外圈垂直气液回收孔(6A)中最紧邻的两个微孔中点连线的中垂线上。