[发明专利]不同深度微结构的一次性制造方法在审
| 申请号： | 201510413446.1 | 申请日： | 2015-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN105171999A | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 贺永;肖箫;傅建中;吴燕 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | B29C39/02 | 分类号： | B29C39/02;B29C39/22;B29C33/38;G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 黄燕 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种不同深度微结构的一次性同步制造方法，包括：(1)在掩膜基底上制作灰度图像，得到掩膜；(2)将掩膜安装在光敏印章机上，对其中的光敏印章垫进行曝光，得到具有不同高度凸起微结构的光敏印章垫；可选择的进入步骤(3)；(3)将压模材料浇注在具有不同高度凸起微结构的光敏印章垫上，固化成型，脱离得到带有不同深度微结构的压膜。本发明尤其适合于皮肤纹理或者指纹的制作，指纹的深度和光敏印章垫上曝光深度比较接近，非常容易控制和实现；现有制作皮肤硅胶没有深度变化，真实性非常低，本发明方法做出皮肤硅胶纹理有深浅变化，比没变化的更像人体皮肤，更有真实感。 | ||
| 搜索关键词： | 不同 深度 微结构 一次性 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种不同深度微结构的一次性同步制造方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)在掩膜基底上制作灰度图像，得到掩膜；(2)将掩膜放置在光敏印章机上，对其中的光敏印章垫进行曝光，得到具有不同高度凸起微结构的光敏印章垫；可选择的进入步骤(3)；(3)将压模材料浇注在具有不同高度凸起微结构的光敏印章垫上，固化成型，脱离得到带有不同深度微结构的压膜。
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