[发明专利]用于去除高分子化合物中低挥发物的装置

摘要

本发明公开了一种用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，包括：加热罐，其为倒立的圆锥台状结构，所述加热罐的底面中嵌设有多个环状电热片，所述多个环状电热片均匀间隔设置；支架，其上部竖直设置有一转轴，所述转轴的上端水平固定一板体，所述板体上表面与所述加热罐的下端固定连接，所述转轴下端与一马达动力连接，所述转轴旋转带动所述加热罐绕轴线作周期性旋转运动；吸收罐；控制器。本发明对高分子化合物的加热均匀，消耗的能量少，高分子化合物中低挥发物挥发彻底。

主权项

一种用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，其特征在于，包括：加热罐，其为倒立的圆锥台状结构，所述加热罐的底面中嵌设有多个环状电热片，所述多个环状电热片均匀间隔设置，所述多个环状电热片均连接至电源，以加热盛放在所述加热罐中的高分子化合物，所述加热罐的上端设有第一通孔；支架，其上部竖直设置有一转轴，所述转轴的上端水平固定一板体，所述板体上表面与所述加热罐的下端固定连接，所述转轴下端与一马达动力连接，所述转轴旋转带动所述加热罐绕轴线作周期性旋转运动，在每个周期中，所述加热罐顺时针旋转180°，然后逆时针旋转180°；吸收罐，其两侧分别设置有第二通孔和第三通孔，所述第二通孔通过第一气管与所述第一通孔连通，所述第三通孔通过第二气管与抽气泵连通，所述吸收罐内部由所述第二通孔至所述第三通孔依次设置有第一滤板、第二滤板、第三滤板和第四滤板，所述第一滤板、第二滤板、第三滤板和第四滤板平行设置，且表面均开设有多个滤孔，所述第一滤板与所述第二滤板间填塞有氧化铝，所述第二滤板与所述第三滤板间填塞活性炭，所述第三滤板与所述第四滤板之间填塞有分子筛；控制器，其与所述马达连接，以控制所述加热罐每分钟运动30‑60个周期。