[发明专利]包含自组装嵌段共聚物的膜和通过旋涂法(IIa)制备该膜的方法有效
| 申请号： | 201510409904.4 | 申请日： | 2015-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN105273221B | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 卡莱德·阿卜戴尔-哈吉姆·阿穆尔;S·石 | 申请（专利权）人： | 帕尔公司 |
| 主分类号： | C08J9/28 | 分类号： | C08J9/28;C08J7/04;C09D153/00;C03C17/32;C04B41/48 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 汪宇伟 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
公开了由自组装嵌段共聚物形成的膜，例如式(I)的二嵌段共聚物： |
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| 搜索关键词： | 包含 组装 共聚物 通过 旋涂法 iia 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备包含式(I)或(II)的嵌段共聚物的多孔膜的方法：![]()
其中：R1是C1‑C22烷基，可选地被选自卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代，或者C3‑C11环烷基，可选地被选自烷基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代；R2是C6‑C20芳基或杂芳基，可选地被选自羟基、氨基、卤素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代；R3和R4之一是C6‑C14芳基，可选地被选自羟基、卤素、氨基以及硝基的取代基所取代，以及R3和R4的另一个是C1‑C22烷氧基，可选地被选自羧基、氨基、巯基、炔基、烯基、卤素、叠氮基以及杂环基的取代基所取代；以及n和m独立地是10至2000；0
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