[发明专利]一种离子液体电镀光亮铝后的去应力退火工艺有效
| 申请号： | 201510393963.7 | 申请日： | 2015-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN104988547B | 公开（公告）日： | 2018-06-15 |
| 发明（设计）人： | 张锁江;陈斌;王倩;吕兴梅 | 申请（专利权）人： | 中国科学院过程工程研究所 |
| 主分类号： | C25D5/50 | 分类号： | C25D5/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 针对离子液体中电镀光亮铝镀层中存在残余应力，本发明提供了一种降低该镀层应力的退火工艺。在真空或惰性气体中，按照一定控温程序进行退火，可以有效地降低光亮铝镀层的残余应力，提高其机械性能，从而避免光亮铝镀层在使用过程中或后续加工过程中的脆性损伤，同时可以保持光亮铝镀层的光亮度。具体实施步骤：光亮铝镀层在真空条件或惰性气体保护下，经1～3小时缓慢升温到退火温度，退温火度为200℃～350℃，达到退火温度后恒温2～4小时，恒温结束后缓慢降温2～8小时至室温。经过本发明处理后的光亮铝镀层的残余应力明显降低，有效的降低了光亮铝镀层产品的后加工的脆性损伤率。 1 | ||
| 搜索关键词： | 铝镀层 退火 残余应力 脆性损伤 离子液体 电镀 机械性能 惰性气体保护 后续加工过程 去应力退火 惰性气体 缓慢降温 缓慢升温 退火工艺 真空条件 有效地 镀层 控温 加工 | ||
【主权项】：
1.一种离子液体电镀光亮铝后的去应力退火工艺，其技术方案如下：①按照专利CN 103849911A的技术方法，在离子液体中电沉积得到光亮铝镀层，在保持镀层光亮度的基础上对其进行去应力退火；②去应力退火工艺：将光亮铝镀层在真空度高于10‑5Pa或惰性气体保护下升温到退火温度，保温一定时间后缓慢冷却到室温，以达到降低光亮铝镀层残余应力的目的，进而避免光亮铝镀层使用过程中或后续加工过程中的脆性损伤，提高光亮铝镀层的机械性能，同时可拓宽其应用范围。2.如权利要求1所述的去应力退火工艺，升温到退火温度时间1～3小时。3.如权利要求1所述的去应力退火工艺，退火温度200℃～350℃，达到退火温度后恒温2～4小时。4.如权利要求1所述的去应力退火工艺，从退火温度降温至室温时间2～8小时。5.如权利要求1所述的去应力退火工艺，基体材料可为各类金属和合金。
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