[发明专利]一种真空蒸镀装置及蒸镀方法有效
| 申请号： | 201510388186.7 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN104911548B | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | 姚固;曾苏伟;徐鹏 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人： | 林桐苒,李丹 |
| 地址： | 230011 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种真空蒸镀装置及蒸镀方法。该真空蒸镀装置包括真空腔室及在所述真空腔室内自下而上依次设置的旋转基台、蒸发源及多个蒸镀区域；所述旋转基台的形状为勒洛三角形，且其在水平面的转动轨迹为圆角正方形；所述蒸镀区域沿所述旋转基台的转动轨迹间隔设置；所述蒸发源在旋转基台的带动下依次经过所述蒸镀区域的下方，使得蒸发源可同时在多个方向进行蒸镀作业，从而提高成膜的均一性以及对蒸发材料的利用率，利于推广与应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括：真空腔室及在所述真空腔室内自下而上依次设置的旋转基台、蒸发源及多个蒸镀区域；所述旋转基台的形状为勒洛三角形，且其在水平面的转动轨迹为圆角正方形；所述蒸镀区域沿所述旋转基台的转动轨迹间隔设置；所述蒸发源在旋转基台的带动下依次经过所述蒸镀区域的下方。
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