[发明专利]一种降低高硅铝合金微弧氧化单位能耗的方法有效
| 申请号: | 201510371995.7 | 申请日: | 2015-06-29 |
| 公开(公告)号: | CN104911664B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
| 发明(设计)人: | 张果戈;董文潇;李文芳;于非 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
| 主分类号: | C25D11/04 | 分类号: | C25D11/04;C25D11/16 |
| 代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司44245 | 代理人: | 陈文姬 |
| 地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种降低高硅铝合金微弧氧化单位能耗的方法,先在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr预钝化膜,再进行微弧氧化处理;所述在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr预钝化膜,具体包括以下步骤(1)对高硅铝合金进行前处理;(2)在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr钝化膜(2‑1)制备钝化液每升去离子水中含有1‑5g单宁酸、1‑4g氟钛酸、1‑2g氟锆酸、1‑4g偏钒酸钠;(2‑2)将高硅铝合金浸泡在钝化液中,处理时间为1‑4min;处理温度为25℃。本发明降低了硅对微弧氧化的不利影响,且工艺简单、高效、环保的条件下,取得缩短铸造铝硅合金微弧氧化过程起弧时间,降低单位能耗的效果。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 降低 铝合金 氧化 单位 能耗 方法 | ||
【主权项】:
一种降低高硅铝合金微弧氧化单位能耗的方法,其特征在于,先在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr预钝化膜,再进行微弧氧化处理;所述高硅铝合金中硅的质量百分数>7%;所述在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr预钝化膜,具体包括以下步骤:(1)对高硅铝合金进行前处理,具体为:(1‑1)依次用100#、400#、600#、800#、1000#的SiC砂纸将高硅铝合金连续打磨至表面光滑且划痕一致为止;(1‑2)将打磨后的高硅铝合金依次采用去离子水、丙酮在超声波清洗仪中清洗,清洗时间为8‑10min,温度为常温;(2)在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr预钝化膜:(2‑1)制备钝化液:每升去离子水中含有1‑5g单宁酸、1‑4g氟钛酸、1‑2g氟锆酸、1‑4g偏钒酸钠;(2‑2)将高硅铝合金浸泡在钝化液中,处理时间为1‑4min,处理温度为常温。
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