[发明专利]离子束清洗刻蚀设备

摘要

本发明属于材料表面处理技术领域，具体涉及一种离子束清洗刻蚀设备，本发明采用非平衡磁场设计，两端的磁铁密度大于中心位置的磁铁密度，使靶材两端的磁场大于中心位置的磁场，以提高两端的氩气被离化的概率，使两端产生更多的氩离子，以提高两端的清洗刻蚀速率；另外，本发明采用了补偿式气路设计，两端气孔的密度大于中心气孔密度，使两端的气压大于中心位置的气压，更多的高能离子分布在两端的位置，以提高基片两端部位被离子撞击清洗的几率，有效地补偿了清洗速率不均，解决了中间快，两端慢的问题。

主权项

一种离子束清洗刻蚀设备，包括用于供应惰性气体的供气单元，以及用于将惰性气体从原子状态转变为高能离子状态的电离室（10），所述电离室（10）置于真空环境中；所述供气单元通过气孔（21）与电离室（10）连通，所述电离室（10）上设有供高能离子喷出的喷射口，所述喷射口正对基片（30）设置，且喷射口沿基片（30）的长度方向连续布置，所述电离室（10）包括由磁铁（14）构成的磁场区域以及阴、阳极（12、13）构成的电场区域，所述磁场区域和电场区域邻近布置形成电离区域，其特征在于：所述磁铁（14）为多个沿基片（30）长度方向间隔布置，且基片（30）中段的磁铁（14）布设密度小于基片（30）两端的磁铁（14）布设密度。