[发明专利]一种高可见光透过率二氧化钒基薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201510315968.8 | 申请日： | 2015-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN104961354B | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 陶海征;朱本钦;储新宏;赵修建 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C03C17/27 | 分类号： | C03C17/27 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人： | 邬丽明 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种高可见光透过率二氧化钒薄膜的制备方法。该方法包括如下步骤1)在衬底上通过制备金属钒薄膜；2)将制备好的金属钒薄膜在真空条件下通氧退火得到有相变效果的二氧化钒薄膜，退火参数为退火气压10Pa～80Pa，退火时间60min～90min，退火温度400℃～550℃；3)将具有相变效果的二氧化钒薄膜在真空条件下通氧退火使其表面过氧化生成五氧化二钒，退火参数为退火气压100Pa～2000Pa，退火时间为20min～40min，退火温度为400℃～550℃。该五氧化二钒膜层可起到增加可见光透过率的效果，并且与二氧化钒膜层结合紧密，不易脱落。该方法制备的二氧化钒薄膜可见光透过率高，相变效果明显，并且相变温度可调，能够适应不同的需求，可以应用到智能窗领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可见光 透过 氧化 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高可见光透过率二氧化钒基薄膜的制备方法，其特征在于，它包括以下步骤：1）在衬底上通过制备金属钒薄膜；2）将制备好的金属钒薄膜在真空条件下通氧退火得到有相变效果的二氧化钒薄膜，退火参数为：退火气压10Pa~80Pa，退火时间60min~90min，退火温度400℃~550℃；3）将具有相变效果的二氧化钒薄膜在真空条件下通氧退火使其表面过氧化生成五氧化二钒，退火参数为：退火气压100Pa~1000Pa，退火时间为20min~40min，退火温度为400℃~550℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学，未经武汉理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510315968.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：夹胶特种玻璃的合片机
- 下一篇：一种超耐候反光膜用玻璃微珠及其制备方法
