[发明专利]再制造过程中的活塞杆表面的硬质PVD修复镀层及其制备方法

摘要

本发明公开了一种再制造过程中的活塞杆表面的硬质PVD修复镀层及其制备方法，利用物理气相沉积（PVD）方法，对再制造过程中气密性不合格的活塞杆镀铬层进行修复，本发明工艺属于材料表面处理技术领域。本发明采用非平衡磁控溅射气象沉积法，配备纯金属铬靶材，在气密性不合格的活塞杆电镀铬层表面沉积单层硬质铬，PVD镀层厚度约为3~5μm。采用此发明可以将电镀铬层的气孔和网状贯通性裂纹堵住，并在表面获得致密的镀层，达到阻断渗漏通道的作用。同时，PVD镀铬层与电镀层结合良好，硬度高，耐磨性好。本发明能够适用于经气密性检测不合格或使用一段时间气密性变差的再制造活塞杆气密件的修复。

主权项

一种活塞杆表面的硬质PVD修复镀层，其特征在于：是以气密性检测不良的活塞杆基体（3）表面的原有电镀层（2）作为所述金属镀层（1）的受镀面并在所述原有电镀层（2）上利用PVD方法沉积制备的一层金属镀层（1），使所述金属镀层（1）修补气密性检测不合格的活塞杆电镀层（2）表面的物理损伤缺陷，并使所述金属镀层（1）与所述原有电镀层（2）结合为一体，所述金属镀层（1）材料是能与所述原有电镀层（2）致密结合的金属材料。