[发明专利]一种表面镀铜的ITO导电膜在审
| 申请号： | 201510293080.9 | 申请日： | 2015-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN104966551A | 公开（公告）日： | 2015-10-07 |
| 发明（设计）人： | 胡文玮;杜成城;刘比尔 | 申请（专利权）人： | 汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;G06F3/044 |
| 代理公司： | 广州市深研专利事务所 44229 | 代理人： | 张喜安 |
| 地址： | 515078 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种表面镀铜的ITO导电膜，包括依次层叠设置在基材一侧的光学调整层、ITO层及铜导线层，所述铜导线层形成在ITO层上，基材与光学调整层之间设有调光硬化涂层，所述铜导线层厚度为50nm～800nm，所述调光硬化涂层折射率介于1.6～1.7，所述ITO层厚度在15nm～35nm，所述ITO层的表面电阻≦400Ω/□。本发明将铜导线层于制作ITO上，不需要添加黏着剂，因此仅需数百奈米的厚度即可达到需求的导电效果，同时也解决了绕曲的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 镀铜 ito 导电 | ||
【主权项】：
一种表面镀铜的ITO导电膜，包括依次层叠设置在基材(1)一侧的光学调整层(2)、ITO层(3)及铜导线层(4)，其特征在于：基材(1)与光学调整层(2)之间设有调光硬化涂层(5)，所述铜导线层(4)厚度为50nm～800nm，所述调光硬化涂层(5)折射率介于1.6～1.7,所述调光硬化涂层(5)厚度介于300nm～2um，所述ITO层(3)厚度在15nm～35nm，所述ITO层(3)的表面电阻≦400Ω/□。
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