[发明专利]微结构增强反射式光阴极的制备方法

摘要

一种微结构增强反射式光阴极的制备方法，该方法采用酸、碱溶液对微通道板进行交替处理，获得表面具有倒圆锥后凹式微结构阵列的微结构增强基底，再采用物理气相沉积法在微结构增强基底表面依次镀制电极层和光电发射层，制得微结构增强反射式光阴极。通过该方法获得的微结构增强反射式光阴极可大幅度提高光阴极的量子效率和对微弱信号的探测能力，光电发射均匀性和稳定性好，适用于空间分辨的大尺度光电发射面应用，该方法还具有工艺流程简单、成本低廉等优点。

主权项

一种微结构增强反射式光阴极的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一，提供一个微通道板，该微通道板由皮玻璃和芯玻璃构成，其中的皮玻璃是可被HF腐蚀而不被HNO3腐蚀的玻璃，芯玻璃是既可被HF腐蚀而又可被HNO3腐蚀的玻璃；步骤二，将微通道板的一面浸入HF溶液中，皮玻璃和芯玻璃交界处的一部分皮玻璃和芯玻璃被腐蚀，并在皮玻璃上形成锥壁；步骤三，将步骤二处理过的微通道板清洗后，将同一面浸入HNO3溶液中进行处理，芯玻璃的一部分被腐蚀形成平面锥底；步骤四，将步骤三处理过的微通道板清洗后浸入NaOH溶液中进行表面微处理；步骤五，将步骤三处理过的微通道板去除表面损伤层，烘干后获得具有密排倒圆锥后凹式微结构阵列的微结构增强基底；步骤六，采用物理气相沉积法在微结构基底表面镀制一层电极层；步骤七，采用物理气相沉积法在电极层上镀制一层光电发射层；步骤二所述HF溶液质量浓度为0.1％～1.5％，处理温度为25℃±2℃，处理时间为30s～200s；步骤三所述HNO3溶液浓度为0.2mol/L～1.5mol/L，处理温度为25℃±2℃，处理时间为60s～600s；步骤四所述NaOH溶液质量浓度为2％～8％，处理温度为25℃±2℃，处理时间为120s～400s。