[发明专利]一种改善有机薄膜晶体管性能的方法有效

专利信息
申请号: 201510274635.5 申请日: 2015-05-26
公开(公告)号: CN104993053B 公开(公告)日: 2017-04-19
发明(设计)人: 叶尚辉;贾振宏;周舟;李兴鳌;黄维 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40;H01L51/00
代理公司: 南京知识律师事务所32207 代理人: 汪旭东
地址: 210046 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种改善有机薄膜晶体管性能的方法,其包括了将二氧化硅的P型掺杂硅片切割成小片,经去离子水、丙酮、乙醇清洗烘干,然后再滴入OTS,旋涂上OTFT新型活性层材料BFTII和经典材料P3HT的混合溶液,经热退火等步骤处理,本发明方法制造成本低,工艺简单,通过在新型低聚OTFT活性层材料中掺杂聚合物和热退火方法,即可使得OTFT在保持较低阈值电压的条件下,载流子迁移率提升两个以上数量级,开关比也能上升一个数量级,适于大规模产业化应用。
搜索关键词: 一种 改善 有机 薄膜晶体管 性能 方法
【主权项】:
一种改善有机薄膜晶体管性能的方法,其步骤如下:步骤一:将单面带有厚度为300nm二氧化硅的p型掺杂硅片压在无尘纸上,沿刻度标尺用金刚石尖刀拉划切割成小片;步骤二:将经过步骤一处理的硅片依次经去离子水清洗10分钟、丙酮清洗20分钟、乙醇清洗15分钟,在80℃下烘30分钟后取出;步骤三:将经过步骤二处理的硅片置于培养皿中放入真空干燥箱,在培养皿中硅片旁用毛细吸管滴入一滴OTS,在120℃下烘3小时后取出;步骤四:将经过步骤三处理的硅片转移到惰性气体手套箱,旋涂上OTFT活性层材料BFTII和P3HT的混合溶液,热退火,BFTII的分子结构如下:步骤五:热退火处理后转移到真空腔室,装好金属掩模板,真空沉积一层金电极;步骤六:电极蒸镀完毕后,用测试台和Keithley源表对制得的OTFT进行电学性能测试;步骤七:涂紫外固化胶、盖上玻璃片、紫外固化,封装完毕。
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