[发明专利]一种改善有机薄膜晶体管性能的方法有效
申请号: | 201510274635.5 | 申请日: | 2015-05-26 |
公开(公告)号: | CN104993053B | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 叶尚辉;贾振宏;周舟;李兴鳌;黄维 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | H01L51/40 | 分类号: | H01L51/40;H01L51/00 |
代理公司: | 南京知识律师事务所32207 | 代理人: | 汪旭东 |
地址: | 210046 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种改善有机薄膜晶体管性能的方法,其包括了将二氧化硅的P型掺杂硅片切割成小片,经去离子水、丙酮、乙醇清洗烘干,然后再滴入OTS,旋涂上OTFT新型活性层材料BFTII和经典材料P3HT的混合溶液,经热退火等步骤处理,本发明方法制造成本低,工艺简单,通过在新型低聚OTFT活性层材料中掺杂聚合物和热退火方法,即可使得OTFT在保持较低阈值电压的条件下,载流子迁移率提升两个以上数量级,开关比也能上升一个数量级,适于大规模产业化应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 改善 有机 薄膜晶体管 性能 方法 | ||
【主权项】:
一种改善有机薄膜晶体管性能的方法,其步骤如下:步骤一:将单面带有厚度为300nm二氧化硅的p型掺杂硅片压在无尘纸上,沿刻度标尺用金刚石尖刀拉划切割成小片;步骤二:将经过步骤一处理的硅片依次经去离子水清洗10分钟、丙酮清洗20分钟、乙醇清洗15分钟,在80℃下烘30分钟后取出;步骤三:将经过步骤二处理的硅片置于培养皿中放入真空干燥箱,在培养皿中硅片旁用毛细吸管滴入一滴OTS,在120℃下烘3小时后取出;步骤四:将经过步骤三处理的硅片转移到惰性气体手套箱,旋涂上OTFT活性层材料BFTII和P3HT的混合溶液,热退火,BFTII的分子结构如下:步骤五:热退火处理后转移到真空腔室,装好金属掩模板,真空沉积一层金电极;步骤六:电极蒸镀完毕后,用测试台和Keithley源表对制得的OTFT进行电学性能测试;步骤七:涂紫外固化胶、盖上玻璃片、紫外固化,封装完毕。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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