[发明专利]检测光刻热点的方法有效
| 申请号： | 201510244597.9 | 申请日： | 2015-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN106200273B | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 张宜翔;林嘉祺;叶信杏;史佩珊;赖俊丞 | 申请（专利权）人： | 力晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 王珊珊 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种检测光刻热点的方法，其步骤包含接收一布局图形数据，对该布局图形数据进行空间影像模拟以析取出多种空间影像强度指数，根据一种或多种这些空间影像强度指数的组合产生出多种空间影像检测子，再根据这些空间影像检测子的数值来判定出所对应的光刻热点位置与种类。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 光刻 热点 方法 | ||
【主权项】：
一种检测光刻热点的方法，包含：接收一布局图形数据；对该布局图形数据进行空间影像模拟，以析取出包含空间影像强度最大值(Imax)、空间影像强度最小值(Imin)、空间影像强度临界值(Ith)以及空间影像强度阵列值(Iarray)的多种空间影像强度指数，其中该空间影像强度阵列值(Iarray)与代表该布局图形数据的给定区域中占多数的决定性规则图形有关；根据这些空间影像强度指数的运算组合产生出一空间影像检测子，并且该空间影像检测子包含：Imin/Iarray、Imax/Ith和Imin/Ith；以及根据这些空间影像检测子的数值，判定出所对应的光刻热点位置与种类。
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