[发明专利]真空镀膜装置及镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201510242400.8 申请日: 2015-05-13
公开(公告)号: CN104894522B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 王君 申请(专利权)人: 安徽普威达真空科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙)34125 代理人: 胡东升
地址: 230088 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 真空镀膜装置,包括呈筒状的带有夹层的冷却水套,所述冷却水套的两端分别设置端盖进行密封,所述端盖与所述冷却水套之间通过紧固机构绝缘连接,其中一个端盖上设有供待处理零件进入所冷却水套的第一通孔,另一个端盖上设有抽真空接口、工作气体接口以及真空测量接口,所述冷却水套的夹层内设有多个间隔布置的环形磁体。本发明还提供利用所述的真空镀膜装置进行真空镀膜的方法。本发明利用管状靶材的环状结构及环形磁体的环状布置特点,通电后,溅射过程兼具空心阴极放电和磁控溅射放电的特点,工作气体分子离化率高,溅射速率高,可以使膜材以高沉积速率沉积在待处理零件需要镀膜的区域,而且无需额外真空室结构及复杂的运动机构。
搜索关键词: 真空镀膜 装置 镀膜 方法
【主权项】:
真空镀膜装置,其特征在于:包括呈筒状的带有夹层的冷却水套(1),所述冷却水套(1)的两端分别设置端盖(2)进行密封,所述端盖(2)与所述冷却水套(1)之间通过紧固机构(3)绝缘连接,其中一个端盖(2)上设有供待处理零件进入所冷却水套(1)的第一通孔(21),另一个端盖(2)上设有抽真空接口(22)、工作气体接口(23)以及真空测量接口(24),所述冷却水套(1)的夹层内设有多个间隔布置的环形磁体(4);管状靶材(8)贴附于冷却水套(1)的内表面,管状靶材(8)、冷却水套(1)、环形磁体(4)共同形成溅射阴极,设有抽真空接口(22)的端盖(2)作为溅射阳极,设有第一通孔(21)的端盖(2)作为偏压接入端。
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