[发明专利]一种超薄壳层Au@SiO2纳米复合材料的可控制备方法

摘要

本发明涉及一种具有超薄壳层结构的Au@SiO2核壳纳米材料的可控制备方法。本发明主要解决了在PDDA修饰的金纳米粒子上不易进行SiO2包覆的问题。所包覆的Au@SiO2核壳纳米材料的壳层厚度可以通过加入MPTS的量和反应时间等参数来进行控制。所制备的Au@SiO2核壳纳米粒子具有形貌规则、壳层厚度均一平整，厚度可以控制在5‑20 nm的范围。本发明中具有超薄壳层结构的Au@SiO2核壳纳米材料不仅在催化、生物传感等方面具有潜在的应用价值，也为进一步制备多结构、多功能的特殊纳米材料提供了模板材料方面的更多选择。

主权项

具有超薄壳层结构的Au@SiO2纳米复合材料，其特征在于：(1) 所制备的Au@SiO2纳米材料具有较薄的SiO2壳层，其粒径大约在100纳米左右，形貌较为规整；(2) 基于PDDA体系的金八面体可以用MPTS作为硅源实现SiO2包覆，该纳米复合材料的制备过程包括以下步骤：a.在20 ml金八面体的乙二醇溶液需加入3 ml浓度为0.02 mol/L的L‑精氨酸水溶液先进行表面改性，然后15 μL的MPTS才可进行表面修饰包覆，修饰包覆过程需要4小时以上；b.在15 μL MPTS修饰后的金纳米粒子溶液中加入浓氨水0.3 ml，通过控制反应时间实现形成不同壳层厚度：反应时间为2、3、4小时，可实现SiO2的成长厚度分别约为5、10、20 nm，反应温度需控制在室温下进行，不可通过加热加快进行；c.反应时间结束后要立即离心洗涤：转速控制在8000转/分钟左右离心，所得沉淀应用乙醇离心洗涤多次，最后分散到乙醇溶液中稳定保存。