[发明专利]一种石墨插层化合物的制备工艺在审
| 申请号： | 201510186358.2 | 申请日： | 2015-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN104817074A | 公开（公告）日： | 2015-08-05 |
| 发明（设计）人： | 高华;杜晓峰;李代黎;姚林;牟舜禹;赵景浩 | 申请（专利权）人： | 德阳烯碳科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人： | 张吉 |
| 地址： | 618000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种石墨插层化合物的制备工艺，包括如下步骤：首先将石墨原料以及反应釜进行干燥处理；向反应釜内加入石墨及插层剂, 石墨与插层剂的质量比为1：0.5-10；将反应釜内的石墨与插层剂搅拌混合均匀，抽除釜体内空气，其真空度<500帕；将反应釜加热，釜体内温度升至280℃-550℃时，持续反应1-10小时，然后冷却，得到稳定的石墨插层化合物，该工艺简单，制得的石墨插层化合物纯度高阶数低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 化合物 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种石墨插层化合物的制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：(1)首先将石墨原料以及反应釜进行干燥处理；(2)向反应釜内加入石墨及插层剂, 石墨与插层剂的质量比为1：0.5‑10；(3)将反应釜内的石墨与插层剂搅拌混合均匀，抽除釜体内空气，其真空度<500帕；(4)将反应釜加热，釜体内温度升至280℃‑550℃时，持续反应1‑10小时，然后冷却，得到稳定的石墨插层化合物。
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