[发明专利]一种纳米叠层CrN镀膜及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201510185855.0 申请日: 2015-04-17
公开(公告)号: CN106148904A 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 于志明;牛云松;魏杰;信智锐;韩斌 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/06
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 许宗富;周秀梅
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种纳米叠层CrN镀膜及其制备方法和应用,属于弧光放电离子镀膜技术领域。本发明利用弧光放电离子镀膜技术在不锈钢或高温合金基材表面上沉积纳米叠层CrN镀膜,在镀膜过程中通过调整蒸发源束流、偏压以及氮气流量的变化,获得无贯穿性微孔生成的纳米叠层CrN镀膜,其为层状结构,由一层贫氮氮化铬(CrNp)和一层富氮氮化铬层(CrNr)交替叠加而成,其每层厚度为40-120纳米,镀膜总厚度在1.0-12微米范围内可调。本发明镀膜应用于工作温度不高于900℃时,由不锈钢或高温合金等材料制成的部件耐高温氧化和耐磨损防护层。
搜索关键词: 一种 纳米 crn 镀膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种纳米叠层CrN镀膜,其特征在于:该镀膜沉积于不锈钢或高温合金基材表面,其为层状结构,每层厚度为40‑120纳米,镀膜总厚度在1.0‑12微米范围内可调。
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