[发明专利]一种超高谱分辨的X射线掠入射显微成像系统有效

专利信息
申请号: 201510155700.2 申请日: 2015-04-02
公开(公告)号: CN104819987B 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 丁永坤;曹柱荣;邓博;陈韬;安宁;王秋平;江少恩 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G01N23/00 分类号: G01N23/00
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司31225 代理人: 杨元焱
地址: 621900 四川省绵*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了一种超高谱分辨的X射线掠入射显微成像系统,它包括两块掠入射曲面X光光学器件,分别命名为第一光学器件和第二光学器件,第一光学器件和第二光学器件的光轴正交,由物点发出的X光经过第一光学器件反射,在子午方向实现聚焦形成准单色化的一维图像,再经过第二光学器件在弧矢方向实现分光并聚焦,形成高单色化的二维图像,最后成像到记录介质上。本发明的超高谱分辨的X射线掠入射显微成像系统具有空间分辨高,能量分辨好,像差小的特点,很好的克服了传统X射线显微镜的缺点。
搜索关键词: 一种 超高 分辨 射线 入射 显微 成像 系统
【主权项】:
一种超高谱分辨的X射线掠入射显微成像系统,其特征在于:包括两块掠入射曲面X光光学器件,分别命名为第一光学器件和第二光学器件,第一光学器件和第二光学器件的光轴正交,由物点发出的X光经过第一光学器件反射,在子午方向实现聚焦形成准单色化的一维图像,再经过第二光学器件在弧矢方向实现分光并聚焦,形成高单色化的二维图像,最后成像到记录介质上;所述的第一光学器件为多层膜反射镜,第二光学器件为弯晶,所述掠入射曲面X光光学器件的面形为凹面面形;所述第一光学器件的设置方位相对于入射光具有3.575°掠入射角,所述第二光学器件的设置方位相对于第一光学器件的出射光具有36.648°Bragg角;所述第一光学器件和第二光学器件晶之间的距离设置为20mm,所述第一光学器件的基底曲率半径为6300mm,所述第二光学器件的弯曲半径为529mm。
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