[发明专利]氧化反应装置及其用途

摘要

一种氧化反应装置，包括反应区、气液分布区和物料支撑件。气液分布区设于反应区之下，物料支撑件用于支撑第一容腔内的反应物，置于反应区的底端。气液分布区包括第二容腔、集气室、1个以上气体分布管和通气口，集气室设于第二容腔内，各个气体分布管的一端布置于集气室的周沿，通气口置于集气室之下。各个气体分布管上均至少设有1个气孔。本发明的氧化反应装置，使得气体、料液和温度等在反应体系中实现均一分布，减少了反应时间，提高了反应速率。

主权项

一种氧化反应装置，其特征在于包括：反应区，包括第一容腔、投料口和盖体，盖体盖于投料口；气液分布区，设于所述的反应区之下，包括第二容腔、集气室、1个以上气体分布管和通气口；所述的第二容腔与所述的第一容腔连通，所述的集气室设于所述的第二容腔内，各个所述的气体分布管的一端布置于所述的集气室的外周，所述的通气口置于所述的集气室之下；物料支撑件，用于支撑所述第一容腔内的反应物，置于所述反应区的底端；气液分布器，其置于所述气体分布管的上方，由若干气液分布板件组成圆形板状，各个所述的气液分布板件上设有若干液体分布孔，以及若干气体分布孔；液体外循环管，其位于所述的氧化反应装置的外部，其一端与所述的第一容腔连通，另一端与所述的第二容腔连通；与所述第一容腔的连通处位于所述的物料支撑件上方，与所述第二容腔的连通处位于所述集气室的下方；液体内循环管，其两端开口，设于氧化反应装置的器壁内侧，一端置于所述的反应区，另一端置于所述的气液分布区；各个所述的气体分布管上均至少设有1个气孔，自与所述的集气室相连接的一端向外周延伸的方向上，所设置的气孔的总面积越大。