[发明专利]射束位置监视装置以及带电粒子束照射系统

摘要

本发明提供一种射束位置监视装置以及带电粒子束照射系统，降低离子束照射的计划外停止来增加每日可治疗的人数的。通过扫描控制装置控制照射装置的扫描电磁铁，向患部的某层内的点的目标位置Pi,j照射从同步加速器射出的离子束。求出目标位置Pi,j与实际的照射位置Pai,j的偏差Dj(S6B)。使用偏差Dj来求出实际的照射位置Pai,j的系统误差Esi,j以及随机误差Eri,j(S6C)。判定系统误差Esi,j是否在系统误差Esi,j的第一容许范围内(S6D)。判定随机误差Eri,j是否在随机误差Eri,j的第二容许范围内(S6D)。当系统误差(Esi,j)以及随机误差Eri,j脱离了容许范围时，停止离子束向患部的照射。

主权项

1.一种射束位置监视装置，其特征在于，具有：第一误差运算装置，其在通过照射装置照射带电粒子束的射束照射对象内的某个目标位置为没有设定多个射束照射区间的第一目标位置时，求出所述第一目标位置与实际的第一照射位置的第一偏差，根据所述第一偏差来分别求出针对所述实际的第一照射位置的第一系统误差以及第一随机误差，其中，所述实际的第一照射位置是对应于所述第一目标位置，在所述射束照射对象内照射所述带电粒子束的位置，通过设置在所述照射装置上的射束位置监视器来进行测定；第一误差判定装置，其进行第一判定以及第二判定，其中，所述第一判定是判定由所述第一误差运算装置求出的所述第一系统误差是否在系统误差的第一容许范围内，所述第二判定是判定由所述第一误差运算装置求出的第一随机误差是否在所述随机误差的第二容许范围内；第二误差运算装置，其在所述射束照射对象内的其他的所述目标位置为设定了多个射束照射区间的第二目标位置时，求出所述射束照射区间中的所述第二目标位置与实际的第二照射位置的第二偏差，根据所述第二偏差来分别求出针对所述实际的第二照射位置的第二系统误差以及第二随机误差，其中，所述实际的第二照射位置是对应于所述第二照射位置，在所述射束照射对象内照射所述带电粒子束的位置，通过所述射束位置监视器来进行测定；以及第二误差判定装置，其进行第三判定以及第四判定，其中，所述第三判定判定由所述第二误差运算装置求出的所述第二系统误差是否在所述第一容许范围内，所述第四判定判定由所述第二误差运算装置求出的所述第二随机误差是否在所述第二容许范围内。