|
钻瓜专利网为您找到相关结果 3个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]射束位置监视装置以及带电粒子束照射系统-CN201510061778.8有效
-
西村荒雄;秋山浩;品川亮介;藤田毅
-
株式会社日立制作所
-
2015-02-05
-
2018-06-26
-
A61N5/10
- 本发明提供一种射束位置监视装置以及带电粒子束照射系统,降低离子束照射的计划外停止来增加每日可治疗的人数的。通过扫描控制装置控制照射装置的扫描电磁铁,向患部的某层内的点的目标位置Pi,j照射从同步加速器射出的离子束。求出目标位置Pi,j与实际的照射位置Pai,j的偏差Dj(S6B)。使用偏差Dj来求出实际的照射位置Pai,j的系统误差Esi,j以及随机误差Eri,j(S6C)。判定系统误差Esi,j是否在系统误差Esi,j的第一容许范围内(S6D)。判定随机误差Eri,j是否在随机误差Eri,j的第二容许范围内(S6D)。当系统误差(Esi,j)以及随机误差Eri,j脱离了容许范围时,停止离子束向患部的照射。
- 随机误差系统误差带电粒子束照射监视装置目标位置射束位置照射位置离子束照射控制照射装置扫描控制装置离子束照射扫描电磁铁同步加速器判定系统射出判定脱离治疗
|