[发明专利]用作激酶抑制剂的脲衍生物在审

专利信息
申请号: 201480069332.3 申请日: 2014-12-19
公开(公告)号: CN106029651A 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: M.C.T.费夫;S.M.托姆;T.M.贝克;G.W.哈博特尔;V.哈辛贝戈维奇;A.里格比 申请(专利权)人: 瑞斯比维特有限公司;托皮维特制药有限公司
主分类号: C07D403/12 分类号: C07D403/12;C07D239/47;C07D413/12;A61K31/44;A61K31/4427;A61K31/505;A61K31/506;C07D213/74;C07D213/75;C07F9/53;C07D401/02;C07D401/12;C07D4
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 黄登高;彭昶
地址: 英国白*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 提供式I的化合物,其中R1、R1A、R1C至R1E、Ra、Rb、X1、E和G具有说明书中给出的含义,所述化合物具有抗炎活性(例如通过抑制以下家族的一个或多个成员:p38促分裂原活化蛋白激酶家族;Syk激酶;和酪氨酸激酶的Src家族的成员)并具有治疗用途,包括在药物组合中的用途,特别是在治疗炎性疾病(包括肺、眼和肠的炎性疾病)中的用途。
搜索关键词: 用作 激酶 抑制剂 衍生物
【主权项】:
式I的化合物,或其药学上可接受的盐、溶剂合物或同位素衍生物其中R1表示‑L1‑C(O)N(R2a)R2b,‑L2a‑S(O)0‑1‑R2c1,‑L2b‑S(O)2‑R2c2,‑L3‑P(O)R2dR2e,‑CH2N(R2d1)‑Q‑R2f,‑O‑S(O)2‑N(R2g)R2h,‑N=S(O)(CH3)2,‑S(=O)(=NR2i)CH3‑O‑C(R2x)(R2y)(R2z)或‑CH2‑Het2;L1、L2a、L2b和L3独立地表示键、‑[C(R3a)(R3b)]1‑2‑或‑OC(R3a)(R3b)‑,其中后一取代基的O‑原子与苯环连接,或L1、L2b或L3表示O;R2a表示‑[C(R3a)(R3b)]‑[C1‑4亚烷基]‑R3c,或者当L1不是键时,R2a可替代地表示H或R4;R2b表示H或C1‑6烷基,或者当L1不是键时,R2a和R2b连同它们所连接的N‑原子可替代地形成完全饱和或部分不饱和的4‑7元杂环基,和所述杂环基包含一个N原子(与R2a和R2b连接的原子)和任选地,选自O、S和N的一个或多个另外的杂原子,和所述杂环基被选自卤素、OH、氧代、C1–4烷基和C1–4烷氧基的一个或多个取代基任选取代;R3c表示‑[O‑CH2(CH2)0‑1CH2]1‑12‑R5a、Het1或Het2;R2c1和R2c2独立地表示被一个或多个卤素基团任选取代的甲基,Het1,Het2或被选自C1–2烷基、卤素、OH和C1‑2烷氧基的一个或多个取代基任选取代的C3‑7环烷基,或者,当L2a不是键时,R2c1可替代地表示R2c3,或者,当L2b不是键时,R2c2可替代地表示R2c3;R2c3表示C2–7烷基、C2–7烯基、C2–7炔基或苯基,所述后四个基团被选自C1–2烷基、卤素、OH和C1‑2烷氧基的一个或多个取代基任选取代;R2d表示C1‑4烷基;R2e表示C1‑4烷基、C3‑6环烷基、C1‑4烷氧基或OH;或者R2d和R2e一起组合形成C3‑6亚烷基;R2d1表示H或R2d;Q表示C(O)或S(O)2;R2f表示R4,或者当Q表示C(O)时,R2f可替代地表示H;R2g和R2h独立地表示H或R4;R2i表示H或甲基;R2x表示被一个或多个OH基团取代的C1‑6烷基;R2y和R2z独立地表示H或被OH任选取代的C1‑4烷基;R3a和R3b在每次出现时独立地表示H或甲基;R4在每次出现时独立地表示Het1、Het2、C1–6烷基、C3‑7环烷基或苯基,所述后三个基团被选自C1–2烷基、卤素、氧代、OH、C1‑2烷氧基和N(R4a)R4b的一个或多个取代基任选取代;R5a表示OR5b或N(R5c)R5d;R4a、R4b和R5b至R5d独立地表示H或被一个或多个卤素或OH取代基任选取代的C1‑4烷基,或R5c和R5d或R4a和R4b连同它们所连接的N‑原子一起形成完全饱和、部分不饱和或完全芳族的4‑7元杂环基,和所述杂环基包含一个N原子(与R5c和R5d或R4a和R4b连接的原子)和任选地,选自O、S和N的一个或多个另外的杂原子,和所述杂环基被选自卤素、OH、氧代、C1–4烷基和C1–4烷氧基的一个或多个取代基任选取代;R1A表示H、OH、卤素、氰基,C1–6烷基、C2–6烯基、C2–6炔基、C1‑6烷氧基,所述后四个基团被选自C1–2烷基、卤素、OH和C1‑2烷氧基的一个或多个取代基任选取代,Het1或苯基,所述后一基团被选自卤素、C1–2烷基和C1‑2烷氧基的一个或多个取代基任选取代;R1C和R1E独立地表示H、卤素、氰基或甲基;R1D表示三甲基甲硅烷基、Het1、Het2、三氟甲基、C2–7烷基、C2–7烯基、C2–7炔基、C3‑7环烷基或苯基,所述后五个基团被选自C1–2烷基、卤素、OH和C1‑2烷氧基的一个或多个取代基任选取代;Het1在每次出现时独立地表示完全芳族的5‑10元杂环基,所述基团包含选自N、O和S的一个或多个杂原子和所述基团被选自OH、卤素、N(R4a)R4b、C1‑2烷基和C1‑2烷氧基的一个或多个取代基任选取代,所述后两个基团被一个或多个卤素原子任选取代;Het2在每次出现时独立地表示完全饱和或部分不饱和的4‑8元杂环基,所述基团包含选自N、O和S的一个或多个杂原子和所述基团被选自OH、氧代、N(R4a)R4b、C1‑2烷基和C1‑2烷氧基的一个或多个取代基任选取代;Ra和Rb连同它们连接的C‑原子一起形成稠合苯环或吡啶环,所述后两个环被选自C1‑3烷基、C1‑3卤代烷基、氰基和卤素的一个或多个取代基任选取代,或者Ra和Rb之一表示H、卤素、氰基、C1‑3烷基或C1‑3卤代烷基和另一个独立地表示卤素、氰基、C1‑3烷基或C1‑3卤代烷基,或者Ra和Rb一起组合形成C3‑5亚烷基或C3‑5亚烯基,所述后两个基团被选自C1‑3烷基、C1‑3卤代烷基、氰基和卤素的一个或多个取代基任选取代;X1表示CH或N;E表示N(G1)、O或S;G表示被一个或多个Y1任选取代的苯基,被一个或多个Y2任选取代的Het3,R6a或C(O)R6b;G1表示H或C1‑3烷基;或者G和G1一起组合形成C3‑6 n‑亚烷基,在C2和C3之间被‑O‑、‑S(O)0‑2‑或‑N(Rc)‑间断的C4‑5 n‑亚烷基,或者在C2和C3之间或在C3和C4之间被‑O‑、‑S(O)0‑2‑或‑N(Rc)‑间断的C6 n‑亚烷基,所述n‑亚烷基中的任一个被选自卤素、OH、氧代、C1–4烷基和C1–4烷氧基的一个或多个取代基任选取代,所述后两个基团被一个或多个卤素原子或被OH任选取代;各个Y1独立地选自卤素、OH、氰基、SF5、CO2H、‑OC(O)NH2,P(O)R6cR6d,E1‑N(R6e)R6f,E2‑S(O)2R6g,E3‑[C(R3a)(R3b)(CH2)0‑1CH2‑O]2‑8‑R6h,‑C≡C‑R6i,‑N=S(O)R6jR6k,Heta,C1‑6烷基、C3‑6环烷基、C1‑6烷氧基、C3‑6环烷氧基、‑S(O)0‑1‑C1‑6烷基和‑S(O)0‑1‑C3–6环烷基,所述后六个基团被选自卤素、OH、C1‑3烷基、C1‑3烷氧基和C3‑6环烷基的一个或多个取代基任选取代;各个Y2独立地表示氧代或Y1;E1表示直接的键,‑C(O)‑,‑S(O)2‑,‑[C(O)]p‑C1‑8亚烷基,‑C(O)‑NR7a‑CH2‑[C1‑7亚烷基]‑,‑Q1‑CH2‑[C1‑5亚烷基]‑,所述后三个基团的亚烷基部分被选自卤素、C1‑3烷基和OH的一个或多个取代基任选取代;E2表示直接的键,‑O‑,‑NR7a‑C1‑6亚烷基或‑Q2‑CH2‑[C1‑5亚烷基]‑,所述后两个基团的亚烷基部分被选自卤素、C1‑3烷基和OH的一个或多个取代基任选取代;E3表示‑C(O)NR7a、‑O‑或S(O)0‑2;Q1和Q2独立地表示O或S(O)0‑2;p表示0或1;R6a表示C1‑8烷基,其中所述烷基的不直接与E连接的一个或两个非相邻的C‑原子任选地被独立地选自O和N的杂原子替换,和/或其中所述烷基被一个或多个R8取代基取代;R6b表示C1‑8烷基,其中所述烷基的一个C‑原子,或所述烷基的两个非相邻的C‑原子,任选地被独立地选自O和N的杂原子替换,和/或其中所述烷基被一个或多个R8取代基取代;R6c和R6d独立地表示C1‑3烷基或C1‑3烷氧基,或R6c和R6d一起组合形成C4‑6亚烷基;R6e和R6f独立地表示H、Het4或C1‑8烷基,所述后两个基团被R7b和/或选自C1–2烷基、卤素、N(R7c)R7d和OH的一个或多个取代基任选取代,或R6e和R6f连同它们所连接的N‑原子一起形成完全饱和、部分不饱和或完全芳族的4‑7元杂环基,和所述杂环基包含一个N原子(与R6e和R6f连接的原子)和任选地,选自O、S和N的一个或多个另外的杂原子,和所述杂环基被选自卤素、OH、氧代、C1‑4烷基、C3–7环烷基和C1‑4烷氧基的一个或多个取代基任选取代;R6g表示C1–6烷基、C3–6环烷基或苯基,所述后三个基团被选自卤素、OH、Het5、C1‑3烷基、C1‑3烷氧基和C3‑6环烷基的一个或多个取代基任选取代;R6h、R6i、R6j和R6k独立地表示被一个或多个卤素原子任选取代的C1‑4烷基,或R6h和R6i独立地表示H;Rc、R7a、R7c和R7d在每次出现时独立地表示H或C1‑3烷基;R7b表示C1‑4烷氧基、‑(S)0‑2‑C1‑4烷基、‑S(O)1‑2‑C1‑4烷基、苯基或Het6,所述后两个基团被选自卤素、C1‑4烷基、C1‑4卤代烷基、C3–7环烷基、C1‑4烷氧基、OH、氨基和氰基的一个或多个取代基任选取代,和所述Het6基团还可被氧代取代;R8在每次出现时独立地表示卤素、OH、氧代、C1‑4烷氧基、C3‑8环烷基、Het7或苯基,所述后四个基团被选自卤素、C1‑4烷基、C1‑4卤代烷基、C1‑4烷氧基、OH、氨基和氰基的一个或多个取代基任选取代,和所述Het7基团还可被氧代取代;Het3、Het4、Het5、Het6和Het7独立地表示完全饱和、部分不饱和或完全芳族的4‑10元杂环基,所述杂环基包含选自N、O和S的一个或多个杂原子;和Heta表示完全饱和、部分不饱和或完全芳族的5‑6元杂环基,所述基团包含选自N、O和S的一个或多个杂原子,和所述基团被选自卤素、OH、氧代、C1‑3烷基、C1‑3烷氧基和C3‑6环烷基的一个或多个取代基任选取代。
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