[发明专利]具有通道形成区域和C形包裹密封件的吸收芯有效

专利信息
申请号: 201480068412.7 申请日: 2014-12-15
公开(公告)号: CN105828765B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: L·斯蒂尔兹戈;H·A·杰克尔斯;T·加科;T·林内特 申请(专利权)人: 宝洁公司
主分类号: A61F13/49 分类号: A61F13/49;A61F13/532;A61F13/534;A61F13/539
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 葛青;宋莉
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了基本上平面的吸收芯(28),该吸收芯在吸收材料沉积区域(73)上包括按重量计至少80%且最多100%的作为的吸收材料的超吸收聚合物、和芯包裹物。吸收材料沉积区域包括至少一个不含吸收材料的通道形成区域(26a,b),芯包裹物的顶部基底和底部基底(16,16’)通过所述通道形成区域粘结在一起。辅助胶(72)在辅助胶施加区域(71)上至少直接施加到第一基底的内表面。辅助胶施加区域(71)小于吸收材料沉积区域(73),并且芯沿至少一个边缘,具体地沿芯的所述两个纵向延伸的边缘包括至少一个C形包裹密封件(284’,286’)。
搜索关键词: 具有 通道 形成 区域 包裹 密封件 吸收
【主权项】:
1.一种沿横向x和纵向y延伸的平面的吸收芯(28),所述“平面的吸收芯”是指吸收芯能够被展平在表面上;所述吸收芯具有前边缘(280)、后边缘(282)和两个纵向延伸的侧边缘(284,286),所述吸收芯包括:包括第一基底(16)和第二基底(16')的芯包裹物,其中每个基底均包括内表面和外表面;吸收材料(60),所述吸收材料包含按重量计至少80%且最多100%的超吸收聚合物,并且具有在所述第一基底和所述第二基底之间限定吸收材料沉积区域(73)的周边,所述吸收材料沉积区域涵盖一个或多个吸收材料的基重为吸收芯的吸收材料沉积区域(73)的其余部分中吸收材料的平均基重的至少小于25%的区域(26a,26b);辅助胶(72),所述辅助胶直接施加到所述第一基底的内表面并且限定辅助胶施加区域(71),其中所述辅助胶通过所述一个或多个吸收材料的基重为吸收芯的吸收材料沉积区域(73)的其余部分中吸收材料的平均基重的至少小于25%的区域(26a,26b)至少部分地将所述第一基底的内表面粘结到所述第二基底的内表面,使得当所述吸收材料溶胀时所述芯包裹物在所述吸收材料的基重为吸收芯的吸收材料沉积区域(73)的其余部分中吸收材料的平均基重的至少小于25%的区域(26a,26b)中形成通道(26'),其特征在于,所述辅助胶施加区域(71)小于所述吸收材料沉积区域(73),并且所述第一基底和/或所述第二基底包括至少一个向外延伸的翼片,所述翼片围绕所述吸收芯的前边缘、后边缘或任一侧边缘至少之一折叠,并且所述至少一个翼片粘结到另一个基底的外表面以沿所述吸收芯的所述至少一个边缘形成C形包裹密封件(284',286')。
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