[发明专利]用于真空处理设备的基板延展装置、具有基板延展装置的真空处理设备和它们的操作方法

摘要

本发明描述了一种用于处理柔性基板的处理设备，具体地是一种用于处理柔性基板的真空处理设备。所述处理设备包括真空腔室；处理滚筒，所述处理滚筒在所述真空腔室内，其中所述处理滚筒被配置成围绕沿第一方向延伸的轴线旋转；以及加热装置，所述加热装置邻近所述处理滚筒，其中所述加热装置被配置成使所述基板沿所述第一方向延展或者维持所述基板沿所述第一方向的延展，并且其中所述加热装置在与基板传输方向平行的方向上具有至少20mm的尺寸。

主权项

1.一种用于处理柔性基板(110；640)的处理设备(100；600)，所述处理设备包括：真空腔室(120)；处理滚筒(110)，所述处理滚筒在所述真空腔室(120)内，其中所述处理滚筒被配置成围绕沿第一方向延伸的轴线(112)旋转；加热装置(130)，所述加热装置邻近所述处理滚筒，其中所述加热装置被配置成使所述基板沿所述第一方向延展，或者维持所述基板沿所述第一方向的延展，并且其中所述加热装置在与基板传输方向平行的方向上具有至少20mm的尺寸；以及基板传输布置，所述基板传输布置包括一或多个辊，其中所述基板传输布置将所述柔性基板从退绕辊引导至卷绕辊，其中所述加热装置定位在所述处理滚筒与所述一或多个辊中的第一辊之间，其中所述第一辊是在所述处理滚筒的上游或下游接触所述基板的第一个辊。