[发明专利]高分子电解质膜有效
| 申请号： | 201480065033.2 | 申请日： | 2014-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN105794031B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 井上祐一;宫崎久远;田中轨人;菊池健太朗;浦冈伸树;茶圆伸一;小西智久;伊野忠 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社;大金工业株式会社 |
| 主分类号： | H01M8/1067 | 分类号： | H01M8/1067;C08F214/18;C08F216/14;C08J9/28;H01B1/06 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;孟伟青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种高分子电解质膜，其具有优异的强度，尺寸变化小，膜电阻小。一种高分子电解质膜，其为包含多孔质膜和高分子电解质的高分子电解质膜，其特征在于，上述多孔质膜的原纤维/结节的面积比为90/10～75/25。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子 电解 质膜 | ||
【主权项】：
1.一种高分子电解质膜，其为包含多孔质膜和高分子电解质的高分子电解质膜，其特征在于，所述多孔质膜的原纤维/结节的面积比为90/10～75/25；所述多孔质膜为聚四氟乙烯的多孔质膜，该多孔质膜的膜密度为0.80g/cm3以下，所述高分子电解质为氟系高分子电解质，所述氟系高分子电解质为含有来自下述通式(I)所表示的含COOZ基或SO3Z基的单体的重复单元和来自四氟乙烯的重复单元的共聚物，CF2＝CF(CF2)k‑O1‑(CF2CFY1‑O)n‑(CFY2)m‑A1 (I)式中，Y1表示F、Cl或全氟烷基，k表示0～2的整数，1表示0或1，n表示0～8的整数，n个Y1可以相同也可以不同；Y2表示F或Cl；m表示0～12的整数；其中，在m＝0的情况下，1＝0、n＝0；m个Y2可以相同也可以不同；A1表示COOZ或SO3Z，Z表示碱金属、碱土金属、氢或NR1R2R3R4，R1、R2、R3和R4各自独立地表示碳原子数为1～3的烷基或氢。
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