[发明专利]光学构件以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201480063648.1 申请日: 2014-11-25
公开(公告)号: CN105874360A 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 出口修央;羽场康弘 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B5/02;G02B27/26;G02F1/1335;G02F1/13363
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 徐乐乐
地址: 日本东京都中*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 该光学构件具有使入射的直线偏振光变化为第1偏振状态的多个第1区域(32a)以及变化为第2偏振状态的多个第2区域(32b),并具有:相位差层(32),其是多个第1区域(32a)以及多个第2区域(32b)在俯视时以规定的图案配置而成的层;偏振元件层(2),其被设置于相位差层(32)一个面侧;防眩层,其被设置于相位差层(32)的另一个面侧的表面,防眩层的凹凸表面的任意的截面曲线的算术平均高度Pa为0.15μm以下,最大截面高度Pt为1.5μm以下。
搜索关键词: 光学 构件 以及 显示装置
【主权项】:
一种光学构件,其具有使入射的直线偏振光变化为第1偏振状态的多个第1区域,以及使入射的直线偏振光变化为第2偏振状态的多个第2区域,所述光学构件的特征在于,具有:相位差层,其是所述多个第1区域以及所述多个第2区域在俯视时以规定的图案配置而成的层;偏振元件层,其被设置在所述相位差层的一个面侧;以及防眩层,其被设置在所述相位差层的另一个面侧的表面,所述防眩层的凹凸表面的任意的截面曲线的算术平均高度Pa为0.15μm以下,最大截面高度Pt为1.5μm以下。
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