[发明专利]晶体硅太阳能电池上的钝化堆叠件有效
申请号: | 201480063181.0 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN105745768B | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | 朱俊杰;周肃;H·豪格;E·斯鲁德马斯泰因;S·E·福斯;王文静;周春兰 | 申请(专利权)人: | 能源技术研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0216 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 吴小瑛 |
地址: | 挪威*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明描述了用于制造晶体硅太阳能电池(1)器件上的钝化堆叠件的方法,所述方法包括以下步骤提供包括诸如晶体硅晶圆或晶片的晶体硅层(2)的基板;通过至少从晶体硅层(2)的一面的一部分去除氧化物层来清洁晶体硅层(2)的表面(21,23);在至少部分清洁表面(21,23)上沉积氮氧化硅层(3);以及在氮氧化硅层(3)的顶部沉积包含氢化的介电材料的覆盖层(5),其中在100℃至200℃、优选100℃至150℃且甚至更优选100℃至130℃的温度下沉积氮氧化硅层(3),其中沉积氮氧化硅层(3)的步骤包括以下子步骤在N2环境气氛中使用N2O和SiH4作为前体气体;以及用低于2、优选低于1且甚至更优选约0.5的气体流量比的N2O与SiH4来沉积氮氧化硅。本发明还描述了通过本发明的方法可获得的晶体硅太阳能电池器件。 | ||
搜索关键词: | 晶体 太阳能电池 钝化 堆叠 | ||
【主权项】:
用于在晶体硅太阳能电池器件(1)上制造钝化堆叠件的方法,所述方法包括以下步骤:‑提供包括晶体硅层(2)的基板;‑通过至少从所述晶体硅层(2)的一面的一部分去除氧化物层来清洁所述晶体硅层(2)的表面(21,23);‑在至少部分清洁的表面(21,23)上沉积氮氧化硅层(3);以及‑在所述氮氧化硅层(3)的顶部沉积包含氢化的介电材料的覆盖层(5),其中在100℃至200℃的温度下沉积氮氧化硅层(3),特征在于沉积所述氮氧化硅层(3)的步骤包括以下子步骤:‑在N2环境气氛中使用N2O和SiH4作为前体气体;以及‑用低于2的N2O与SiH4的气体流量比来沉积氮氧化硅。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于能源技术研究所,未经能源技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480063181.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的