[发明专利]晶体硅太阳能电池上的钝化堆叠件有效

专利信息
申请号: 201480063181.0 申请日: 2014-11-19
公开(公告)号: CN105745768B 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 朱俊杰;周肃;H·豪格;E·斯鲁德马斯泰因;S·E·福斯;王文静;周春兰 申请(专利权)人: 能源技术研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0216
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 吴小瑛
地址: 挪威*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明描述了用于制造晶体硅太阳能电池(1)器件上的钝化堆叠件的方法,所述方法包括以下步骤提供包括诸如晶体硅晶圆或晶片的晶体硅层(2)的基板;通过至少从晶体硅层(2)的一面的一部分去除氧化物层来清洁晶体硅层(2)的表面(21,23);在至少部分清洁表面(21,23)上沉积氮氧化硅层(3);以及在氮氧化硅层(3)的顶部沉积包含氢化的介电材料的覆盖层(5),其中在100℃至200℃、优选100℃至150℃且甚至更优选100℃至130℃的温度下沉积氮氧化硅层(3),其中沉积氮氧化硅层(3)的步骤包括以下子步骤在N2环境气氛中使用N2O和SiH4作为前体气体;以及用低于2、优选低于1且甚至更优选约0.5的气体流量比的N2O与SiH4来沉积氮氧化硅。本发明还描述了通过本发明的方法可获得的晶体硅太阳能电池器件。
搜索关键词: 晶体 太阳能电池 钝化 堆叠
【主权项】:
用于在晶体硅太阳能电池器件(1)上制造钝化堆叠件的方法,所述方法包括以下步骤:‑提供包括晶体硅层(2)的基板;‑通过至少从所述晶体硅层(2)的一面的一部分去除氧化物层来清洁所述晶体硅层(2)的表面(21,23);‑在至少部分清洁的表面(21,23)上沉积氮氧化硅层(3);以及‑在所述氮氧化硅层(3)的顶部沉积包含氢化的介电材料的覆盖层(5),其中在100℃至200℃的温度下沉积氮氧化硅层(3),特征在于沉积所述氮氧化硅层(3)的步骤包括以下子步骤:‑在N2环境气氛中使用N2O和SiH4作为前体气体;以及‑用低于2的N2O与SiH4的气体流量比来沉积氮氧化硅。
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