[发明专利]根据光刻胶厚度使用处理器改变写入射束的输送剂量的图案产生器及相关方法

摘要

揭示根据光刻胶厚度使用处理器改变写入射束的输送剂量的多射束图案产生器及相关方法。图案产生器可在具有光刻胶的基板上写入图案，光刻胶对写入射束敏感。当写入射束在写入像素位置写入图案的至少一部分时，可于各写入周期写入图案。图案产生器的射束致动器可将写入射束独立地引导至写入像素，以于每个写入周期期间输送各像素剂量。可根据一或更多方式利用以下之一或多者而根据不同写入像素位置的光刻胶厚度调整输送的像素剂量：致动器驻留时间、发射的脉冲宽度、发射的脉冲频率和发射的脉冲强度。如此，可为具有变化的光刻胶厚度的基板提供额外的尺寸控制。

主权项

1.一种多射束图案产生器，包含：台架，所述台架被配置为在多个写入周期的各写入周期期间将第一基板支撑在多个写入周期区位置中；写入射束致动器，所述写入射束致动器被配置为将多个写入射束的每个写入射束独立地引导至多个写入像素位置，所述多个写入像素位置设置在设置于所述第一基板上的光刻胶的外表面上；及计算机处理器，所述计算机处理器被配置为：确定在所述写入像素位置的每个写入像素位置处的所述光刻胶的厚度，其中每个厚度是在使所述光刻胶曝光于所述多个写入射束之前在所述第一基板与所述光刻胶的所述外表面之间测量的，在使第一度量基板在相应写入像素位置的每个写入像素位置处曝光于来自所述多个写入射束的均匀写入剂量后，确定所述第一度量基板上的所述相应写入像素位置处的曝光后工艺偏差，在第二度量基板上的相应写入像素位置处施加多个修正剂量，其中所述多个修正剂量是基于为所述第一度量基板确定的所述曝光后工艺偏差而确定的，确定施加至所述第二度量基板的所述多个修正剂量对于处理其他基板是可接受的，所述其他基板包括所述第一基板，及根据在所述第一基板上的各所述写入像素位置之间的所述光刻胶的厚度的变化以及根据被施加至所述第二度量基板的所述多个修正剂量来调整从所述多个写入射束到所述第一基板上的各所述写入像素位置的输送写入剂量，其中所述计算机处理器被配置为在确定施加至所述第二度量基板的所述多个修正剂量对于处理包括所述第一基板的其他基板是可接受的之后调整所述输送写入剂量。