[发明专利]根据光刻胶厚度使用处理器改变写入射束的输送剂量的图案产生器及相关方法

说明书

揭示根据光刻胶厚度使用处理器改变写入射束的输送剂量的多射束图案产生器及相关方法。图案产生器可在具有光刻胶的基板上写入图案，光刻胶对写入射束敏感。当写入射束在写入像素位置写入图案的至少一部分时，可于各写入周期写入图案。图案产生器的射束致动器可将写入射束独立地引导至写入像素，以于每个写入周期期间输送各像素剂量。可根据一或更多方式利用以下之一或多者而根据不同写入像素位置的光刻胶厚度调整输送的像素剂量：致动器驻留时间、发射的脉冲宽度、发射的脉冲频率和发射的脉冲强度。如此，可为具有变化的光刻胶厚度的基板提供额外的尺寸控制。

技术领域

本公开内容的实施方式大体涉及用于微光刻(microlithography)图案化的设备和方法，更特定而言涉及用于将施加有光刻胶膜的大基板微光刻图案化的设备和方法。

背景技术

大面积基板常用于支撑电子装置中使用的电气特征结构。在一些情况下，制造用于有源矩阵显示器(比如电脑、触摸面板装置、个人数字助理(PDA)、手机、电视屏幕及类似装置)的平面面板时，会使用大面积基板。通常，平面面板可包含夹设在两板之间而形成像素的液晶材料层。当使用期间电源功率被施加于液晶材料时，可精确控制像素位置上通过液晶材料的光量，从而能够产生图像。

在一些情况下，微光刻技术用于产生电气特征结构，电气特征结构被并入为形成像素的液晶材料层的一部分。根据此技术，利用轨道或涂布机系统，于基板表面形成辐射敏感光刻胶层，以在基板的至少一个表面上产生一般为亚毫米厚的光刻胶。在晶片微光刻中，往往可通过使基板按近乎五千(5,000)转/分钟自转长达一(1)分钟来在整个基板上分配光刻胶，而在圆形基板上达成小于十(10)纳米的均匀光刻胶厚度。然而在大矩形基板的情形中，在整个基板上均匀地实现相同光刻胶厚度更加困难。事实上，在一些情况下，用于平板显示器制造的基板大小是晶片微光刻中使用的基板的十六(16)倍，且非圆形，这使得难以有效旋涂光刻胶。基板各处的光刻胶厚度均匀度变化造成形成于基板上的光刻胶中的图案特征的特征结构尺寸变化。不论基板用于支撑平板显示器制造还是用于其他电子基产品，特征结构尺寸不均匀都将不利地影响由图案特征构形成的电子装置性能。

为此，对更便宜、更大及更高性能的电子装置的需求不断扩大。为满足对此类电子装置的需求，需要具有更小且更均匀的特征结构的较大基板。需要新方式来更精确地在大基板上形成更小且更均匀的图案。

发明内容

本文揭示的实施方式包括根据光刻胶厚度使用处理器改变写入射束的输送剂量(dose)的多射束图案产生器及相关方法。图案产生器可在具有光刻胶的基板上写入图案，所述光刻胶对写入射束敏感。当写入射束在写入像素位置写入图案的至少一部分时，可于各写入周期写入图案。图案产生器的射束致动器可将写入射束独立地引导至写入像素，以于每个写入周期期间输送各像素剂量。可根据一或更多方式利用以下之一或更多而根据不同写入像素位置处的光刻胶厚度来调整输送的像素剂量：致动器驻留时间(dwell time)、发射的脉冲宽度(pulse duration)、发射的脉冲频率和发射的脉冲强度。如此，为具有变化的光刻胶厚度的基板提供额外尺寸控制。

在一实施方式中，揭示多射束图案产生器。图案产生器可包括台架，所述台架被配置以在多个写入周期的各写入周期期间将基板支撑在多个写入周期区位置。图案产生器亦可包括写入射束致动器，用以将多个写入射束的每个写入射束独立地引导至写入像素位置，写入像素位置设在基板的光刻胶上。图案产生器亦可包括计算机处理器，用以根据各写入像素位置处的光刻胶厚度调整为各写入像素位置输送的像素剂量。如此，可在具有光刻胶厚度变化的基板上达到更精确的图案特征结构关键尺寸控制。