[发明专利]独立于偏振的干涉仪

摘要

设备、系统和方法用于使用独立于偏振的干涉仪来检测衬底上的特征的对准。设备、系统和方法包括接收从衬底上的标记衍射或散射的光的光学元件。光学元件可以将衍射光分裂成由一个或多个检测器进行检测的多个子光束。衍射光可以可选地或者在检测之后的处理期间进行组合。系统可以基于具有任何偏振角度或状态的接收到的衍射光来确定对准和/或重叠。

主权项

1.一种光刻设备，包括：照射系统，被配置成调节辐射束；衬底台，被配置成保持衬底，所述衬底包括标记；投影系统，被配置成将所述辐射束投影到所述衬底上；和光学系统，包括干涉测量子系统和检测器子系统，所述干涉测量子系统被配置成接收来自所述标记的衍射或散射的辐射束，所述检测器子系统被配置成检测从所述干涉测量子系统输出的光束，其中，来自所述标记的所述衍射或散射的辐射束包括至少一个正衍射阶和至少一个对应的负衍射阶，所述干涉测量子系统被配置成将所述衍射或散射的辐射束分成第一通道、第二通道、第三通道和第四通道，所述第一通道、所述第二通道、所述第三通道和所述第四通道中的每个通道被配置成使得对应的正衍射阶和负衍射阶在每个通道的输出处至少部分地在空间上彼此重叠，所述干涉测量子系统包括：不显著地影响所述衍射或散射的辐射束的偏振的基本上中性偏振的分束器；以及第一转动棱镜和第二转动棱镜，所述第一转动棱镜和所述第二转动棱镜反射并转动被传输穿过所述分束器的部分反射表面或由所述分束器的部分反射表面反射的光束，沿着所述第一通道的光束传输穿过所述部分反射表面，在所述第一转动棱镜中反射，传输穿过所述部分反射表面，并且随后离开所述分束器，沿着所述第二通道的光束传输穿过所述部分反射表面，在所述第一转动棱镜中反射，反射离开所述部分反射表面，并且随后离开所述分束器，沿着所述第三通道的光束反射离开所述部分反射表面，在所述第二转动棱镜中反射，传输穿过所述部分反射表面，并且随后离开所述分束器，沿着所述第四通道的光束反射离开所述部分反射表面，在所述第二转动棱镜中反射，反射离开所述部分反射表面，并且随后离开所述分束器，并且所述检测器子系统包括第一检测器和第二检测器，所述第一检测器被配置成检测包括来自所述第一通道和所述第四通道的输出光束的第一复合光束，所述第二检测器配置成检测包括来自所述第二通道和所述第三通道的输出光束的第二复合光束，所述第一复合光束被配置成使得对应的正衍射阶和负衍射阶至少部分地在空间上彼此重叠，并且所述第二复合光束被配置成使得对应的正衍射阶和负衍射阶至少部分地在空间上彼此重叠。