[发明专利]图案形成方法、图案掩模的形成方法、电子器件的制造方法及电子器件在审
| 申请号： | 201480054009.9 | 申请日： | 2014-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN105593762A | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | 山本长生;杉山真一 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种图案形成方法、图案掩模的形成方法、电子器件的制造方法及电子器件。本发明的图案形成方法，其包含如下工序：(I)将含有树脂(A)及化合物(B)的感活性光线性或感辐射线性树脂组合物涂布于基板上来形成第一膜，其中，所述树脂包含具有通过酸的作用分解而产生极性基团的基团的重复单元，所述化合物通过活性光线或辐射线的照射而产生酸；(II)将第一膜进行曝光；(III)对经曝光的第一膜进行显影来形成线与空间图案；及(IV)用第二膜包覆线与空间图案，所述图案形成方法的特征在于，工序(III)中所形成的线与空间图案中的线图案的顶部宽度大于底部宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，其特征在于，包含如下工序：(I)将含有树脂(A)及化合物(B)的感活性光线性或感辐射线性树脂组合物涂布于基板上来形成第一膜，其中，所述树脂包含具有通过酸的作用分解而产生极性基团的基团的重复单元，所述化合物通过活性光线或辐射线的照射而产生酸；(II)将第一膜进行曝光；(III)对经曝光的第一膜进行显影来形成线与空间图案；及(IV)用第二膜包覆线与空间图案，工序(III)中所形成的线与空间图案中的线图案的顶部宽度大于底部宽度。
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