[发明专利]用于基材辐射处理设备的气流装置有效
| 申请号： | 201480051470.9 | 申请日： | 2014-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN105555423B | 公开（公告）日： | 2017-11-21 |
| 发明（设计）人： | 卡洛斯·里贝罗 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 |
| 主分类号： | B05D3/06 | 分类号： | B05D3/06;F26B3/28;B29C71/04;B29B13/06;B29C35/08;B29C37/00;B29C35/04 |
| 代理公司： | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司11129 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 瑞士普费*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及基材的辐射处理设备，它在腔室内在用于装设待处理基材的基材座上包括至少一个辐射源，并且该腔室包括用于在该腔室内维持气流的机构，其包括具有至少一个气体入口和至少一个气体出口的气体流动机构，其特征是，该气体流动机构设置在该基材座下方的区域内且如此构成，经至少一个气体入口流入的气体首先环绕基材座流动，随后它直接和/或在流经所述至少一个辐射源之后经气体出口又离开该腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基材 辐射 处理 设备 气流 装置 | ||
【主权项】：
一种基材的辐射处理设备(401)，它在腔室内在用于装设待处理基材的基材座(11,11‘)上方包括至少一个辐射源(9,9‘,9“)，该腔室包括用于在该腔室内维持气流的机构，其具有包括至少一个气体入口(421,421‘)和至少一个气体出口(423,405)的气体流动机构，其特征是，该气体流动机构设置在该基材座(11,11‘)下方的区域内且如下构成：气体入口(421,421‘)和气体出口(423,405)包括下列构件：所述构件形成在流向上缩小的、且进一步在下游又扩宽的流道，由此在该设备运行时基本上至少在该气体流动机构处存在层流且因而不会因为紊流而出现沉积，其中，在该腔室内形成气流，该气流在进入腔室之后直接在基材座(11,11‘)旁流过，气流之前未在散发热的辐射源(9,9‘,9“)旁流过。
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