[发明专利]制造用于EUV光刻法的掺杂钛的石英玻璃的方法和据此制成的坯料有效

专利信息
申请号: 201480045062.2 申请日: 2014-07-22
公开(公告)号: CN105431388B 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: S.奥赫斯;K.贝克;S.托马斯 申请(专利权)人: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
主分类号: C03B19/14 分类号: C03B19/14;C03B20/00;C03C3/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 张华,石克虎
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 存在于掺杂Ti的石英玻璃中的Ti3+离子导致该玻璃的棕色着色,由此使得玻璃的检测变得困难。已知通过足够高含量的OH基团确保Ti‑掺杂石英玻璃中的Ti3+离子减少,有利于Ti4+离子,由此发生伴随着氢向外扩散的内氧化,或在低OH基团含量时,在玻璃化前需要氧气处理,所述氧气处理需要高处理温度和专用耐腐蚀炉并因此昂贵。为提供成本有利的生产在小于120重量ppm的羟基含量的同时在400纳米至1000纳米波长范围内具有至少70%的内透射率(10毫米样品厚度)的Ti‑掺杂石英玻璃的方法,由基于火焰水解灰料沉积法出发本发明建议,在玻璃化之前对所述TiO2‑SiO2灰料体施以包括用氮氧化物处理的调整处理。如此制得的Ti‑掺杂石英玻璃的特征为Ti3+/Ti4+的比率< 5 x 10‑4。
搜索关键词: 制造 用于 euv 光刻 掺杂 石英玻璃 方法 据此 制成 坯料
【主权项】:
制造用于EUV光刻法的由高硅酸含量的掺杂钛的玻璃制成的坯料的方法,所述坯料在10毫米样品厚度下具有在400纳米至1000纳米波长范围内至少70%的内透射率,所述方法包括下列方法步骤:(a) 借助含硅和钛的起始物质的火焰水解制造TiO2‑SiO2灰料体,(b) 干燥所述灰料体以产生小于120重量ppm的平均羟基含量,(c) 将所述灰料体玻璃化,形成由高硅酸含量的掺杂钛的玻璃制成的坯料,其特征在于,在根据方法步骤(c)的玻璃化之前,对所述TiO2‑SiO2灰料体施以包括用氮氧化物处理的调整处理,并且为了从灰料体中排出反应气体,在用氮氧化物调整处理之后和在根据方法步骤(c)的玻璃化之前在600℃至1000℃的温度范围内进行热处理。
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