[发明专利]用于使用耗尽光束形成亚微米特征结构的反应物的光子活化

摘要

精细特征结构的形成方法和装置在小于STED耗尽激光光束的直径或横截面的区域中提供光子诱发的沉积、蚀刻及基于热或光子的处理。至少两个STED耗尽光束被导引到基板上的反应位置，其中形成面积小于光束的激发部分的光束重叠区域。被引导到反应区域的反应物被两个光束的激发部分的组合能量激发，但未在所述光束的两个激发部分的重叠区域外部被激发。使反应物只在所述重叠区域中出现。所述重叠区域可以小于20nm宽，并且宽度小于1nm，以能够以小的面积形成基板特征结构或在基板中进行改变。

主权项

1.一种供应反应物活化能量到亚微米区域的方法，包含以下步骤：提供第一光子能量光束，所述第一光子能量光束具有非耗尽中心区域、周围的耗尽区域和40纳米的全宽；提供第二光子能量光束，所述第二光子能量光束具有非耗尽中心区域、周围的耗尽区域和40纳米的全宽；和定位所述第一光子能量光束的所述非耗尽中心区域和所述第二光子能量光束的所述非耗尽中心区域，以在第一重叠区域中重叠，其中所述第一重叠区域的面积小于所述第一光子能量光束的所述非耗尽中心区域或所述第二光子能量光束的所述非耗尽中心区域的面积。