[发明专利]光学用膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201480037328.9 | 申请日： | 2014-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN105359011A | 公开（公告）日： | 2016-02-24 |
| 发明（设计）人： | 石黑淳;斋藤大辅;小原祯二 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C47/14;B29C47/78;G02F1/1335;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 北京市嘉元知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11484 | 代理人： | 张永新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光学用膜，其由嵌段共聚物氢化物[2]形成，所述嵌段共聚物氢化物[2]是将嵌段共聚物[1]的全部不饱和键氢化而得到的，所述嵌段共聚物[1]包含以源自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的2个以上的聚合物嵌段[A]和以源自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的1个以上的聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]、[B]在嵌段共聚物整体中所占的重量分率设为wA、wB时，(wA:wB)为40:60～80:20，该膜的长度方向上所形成的分模线的从相邻的峰的顶点到谷的底点之间的高度在膜整个面上为100nm以下，且膜表面的分模线的倾斜度在膜整个面上为300nm/mm以下。根据本发明，可提供表面缺陷少的光学用膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学用膜，其由嵌段共聚物氢化物[2]形成，所述嵌段共聚物氢化物[2]是将嵌段共聚物[1]的全部不饱和键的90％以上氢化而成的，所述嵌段共聚物[1]包含以源自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]、和以源自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]在嵌段共聚物整体中所占的重量分率设为wA、将全部聚合物嵌段[B]在嵌段共聚物整体中所占的重量分率设为wB时，wA与wB之比(wA:wB)为40:60～80:20，其中，该膜的长度方向上形成的分模线的从相邻的峰的顶点到谷的底点之间的高度在膜整个面上为100nm以下，并且，以式1表示的膜表面的分模线的倾斜度在膜整个面上为300nm/mm以下，倾斜度(nm/mm)＝(从相邻的峰的顶点到谷的底点之间的高度)/(从相邻的峰的顶点到谷的底点之间的宽度)······式1。
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