[发明专利]水处理方法以及水处理系统

摘要

本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(300)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在第一脱盐部(10)中分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第一析晶部(20)中向第一浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从第一浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在第一析晶部(20)的被处理水下游侧被从第一浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在第一脱盐部(10)的上游侧或者第一析晶部(20)的下游侧被从第一浓缩水中去除。

主权项

一种水处理方法，其包括如下的工序：第一水垢防止剂供给工序，在该第一水垢防止剂供给工序中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给钙水垢防止剂，所述钙水垢防止剂是防止包含钙的水垢析出的水垢防止剂；第一pH调整工序，在该第一pH调整工序中，将所述被处理水调整为所述二氧化硅能够溶解于所述被处理水中的pH10以上；第一脱盐工序，该第一脱盐工序在所述第一水垢防止剂供给工序以及所述第一pH调整工序之后，将所述被处理水分离为第一浓缩水和处理水，所述第一浓缩水浓缩有所述Ca离子、所述SO4离子、所述碳酸离子以及所述二氧化硅；以及第一析晶工序，在该第一析晶工序中，向所述第一浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏从所述第一浓缩水中析晶，在所述第一析晶工序之后，包括如下的工序：第二水垢防止剂供给工序，在该第二水垢防止剂供给工序中，向所述被处理水供给所述钙水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂，所述二氧化硅水垢防止剂是防止二氧化硅析出的水垢防止剂；第二脱盐工序，该第二脱盐工序在所述第二水垢防止剂供给工序之后，将所述被处理水分离为第二浓缩水和处理水，所述第二浓缩水浓缩有所述Ca离子、所述SO4离子、所述碳酸离子以及所述二氧化硅；以及第二析晶工序，在该第二析晶工序中，向所述第二浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏从所述第二浓缩水中析晶。