[发明专利]含有酸性气体的气体处理用分离膜、及含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法在审
| 申请号： | 201480029339.2 | 申请日： | 2014-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN105228735A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 仓桥智彦;藏冈孝治 | 申请（专利权）人： | 东洋橡胶工业株式会社 |
| 主分类号： | B01D71/70 | 分类号： | B01D71/70;B01D69/10;B01D69/12;C08J7/16 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 侯婧;钟守期 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种可从含有二氧化碳等酸性气体和甲烷气体的消化气体中分离酸性气体或甲烷气体，并得到高浓度的甲烷气体的含有酸性气体的气体处理用分离膜。使在表面存在有残留未反应基团的引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体与从含烃基单烷氧基硅烷、含烃基二烷氧基硅烷、含烃基一氯硅烷、含烃基二氯硅烷、及含烃基三氯硅烷组成的组中选择的至少一种改性用硅烷化合物反应，从而制作消灭或减少了所述残留未反应基团的含有酸性气体的气体处理用分离膜。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 酸性 气体 处理 分离 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种含有酸性气体的气体处理用分离膜，其中使在表面存在有残留未反应基团的引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体与从含烃基单烷氧基硅烷、含烃基二烷氧基硅烷、含烃基一氯硅烷、含烃基二氯硅烷、及含烃基三氯硅烷组成的组中选择的至少一种改性用硅烷化合物反应，从而消灭或减少了所述残留未反应基团。
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