[发明专利]用于精细结构化结构的后续表面修饰的方法在审

专利信息
申请号: 201480017280.5 申请日: 2014-02-04
公开(公告)号: CN105073243A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: M·库切拉;J·M·塞弗特;蔡治中 申请(专利权)人: 巴斯夫欧洲公司
主分类号: B01J13/20 分类号: B01J13/20;C01G23/08;C01B33/12
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 苏萌;钟守期
地址: 德国路*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于对由硬质无机材料构成的精细结构化结构的后续表面修饰的方法,以及可通过所述方法得到的结构。
搜索关键词: 用于 精细结构 结构 后续 表面 修饰 方法
【主权项】:
一种对由硬质无机材料形成的结构进行后续表面修饰的方法,所述结构在至少一个空间方向上的材料厚度M不大于1000nm,并且作为整体结构,在至少一个空间方向上,其尺寸为材料厚度M的至少5倍,所述方法包括用包含至少一种可以与无机材料的原子反应以形成化学键并且具有至少一种选自羟基、羧基、碳酸酯基、和键合至磷原子上的氧原子的活性官能团的活性物质的有机液体处理所述结构,所述处理是在有机液体处于超临界状态的条件下进行。
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