[发明专利]牙科底涂剂制剂

摘要

底涂剂制剂，其包含(1)至少一种通式R1nSi(OR2)4‑n(I)的烷氧基硅烷单体，其中R1代表有机残基，其包含至少一个烯键式不饱和的可聚合基团，R2代表C1‑C8烷基有机残基和n为1、2或3，其中所述残基R1和R2可以各自相同或不同；(2)至少一种通式(R9)+(Hx‑1Fx)‑z(II)的聚氢氟酸盐，其中R9代表来自一系列碱金属、碱土金属或过渡金属的金属阳离子或代表式(R5)(R6)(R7)(R8)N+的铵离子，其中R5、R6、R7和R8各自彼此独立地代表H或C1‑至C12‑烷基、C3‑至C12‑烯基‑或C6‑C12‑芳基残基，其中R5、R6、R7和R8可以相同或不同，并且其中这些残基中的两个可以结合在一起以与氮原子形成杂环，和其中所述残基中的三个与氮原子可以一起形成吡啶鎓离子，x是2至5，优选为2至4，特别是3的整数，z相当于阳离子残基R9的化合价，(3)有机溶剂，和(4)水。

主权项

1.牙科底涂剂制剂，其包含(1)至少一种通式(I)的烷氧基硅烷单体R1nSi(OR2)4‑n   (I)，其中R1代表有机残基，其包含至少一个烯键式不饱和的可聚合基团，R2代表C1‑C8烷基有机残基，和n为1、2或3，其中所述残基R1和R2可以各自相同或不同；(2)至少一种通式(II)的聚氢氟酸盐(R9)+(Hx‑1Fx)‑z   (II)，其中R9代表来自一系列碱金属、碱土金属或过渡金属的金属阳离子或代表式(R5)(R6)(R7)(R8)N+的铵离子，其中R5、R6、R7和R8各自彼此独立地代表H或C1至C26烷基、C3至C26烯基或C6‑C26芳基残基，其中R5、R6、R7和R8可以相同或不同，并且其中这些残基中的两个可以结合在一起以与氮原子一起形成杂环，和其中所述残基中的三个与氮原子可以一起形成吡啶鎓离子，x是2至5的整数，z相当于阳离子残基R9的化合价，(3)有机溶剂，和(4)水。