[发明专利]曲面衍射光栅、其制造方法以及光学装置有效

专利信息
申请号: 201480013530.8 申请日: 2014-01-30
公开(公告)号: CN105074512B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 青野宇纪;江畠佳定;松井繁;渡边哲也 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;B29C39/10
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 张敬强,严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种制作高精度衍射光栅的技术,能够通过使在硅基板上使用半导体工艺制作的平面衍射光栅沿曲面基板塑性变形,制造具有所希望的曲率的曲面衍射光栅。其特征为将使用半导体工艺制作的硅制平面衍射光栅转印至非晶质材料,并将非晶质材料基板曲面化,安装在曲面固定基板上,得到具有抑制转位线的产生的结晶性材料的曲面衍射光栅。
搜索关键词: 曲面 衍射 光栅 制造 方法 以及 光学 装置
【主权项】:
一种曲面衍射光栅的制作方法,其特征在于,通过以下的工序(1)—(4)形成曲面衍射光栅的模具,通过将该模具转印至树脂基板来制作曲面衍射光栅:(1)在硅基板上形成衍射图案的工序,(2)使形成有上述衍射图案的硅基板与非晶质材料基板以上述衍射图案与上述非晶质材料基板的表面相对的方式重合,在上述非晶质材料基板的主面上转印上述衍射图案从而形成非晶质材料制平面衍射光栅的工序,(3)通过使在一主面上具备凸状曲面的曲面基板的该一主面侧抵接于上述非晶质材料基板的与形成上述非晶质材料制平面衍射光栅的面相对的面并按压,使上述非晶质材料基板曲面化从而使上述非晶质材料制平面衍射光栅曲面化的工序,(4)通过固定上述曲面化的非晶质材料基板的该一主面相对的凹面与具备凸状曲面的固定基板的该凸状曲面,形成曲面衍射光栅的模具的工序。
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