[发明专利]EUV光刻装置的照明系统及其分面反射镜有效
| 申请号： | 201480009868.6 | 申请日： | 2014-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN105074574B | 公开（公告）日： | 2017-07-04 |
| 发明（设计）人： | J.劳夫;I.萨恩格;J.齐默尔曼;D.克雷默;C.亨纳克斯;F.施莱塞纳 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/09;G02B26/08;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a‑d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a‑d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a‑d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a‑d，14a‑d)的分面反射镜(13，14)。 | ||
| 搜索关键词： | euv 光刻 装置 照明 系统 及其 反射 | ||
【主权项】：
EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a‑d)，第二分面反射镜(14)，具有将由所述第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)反射至照明场(BF)的分面元件(14a‑d)，其特征在于，所述第二分面反射镜(14)的分面元件(14a,c；14b,d)中的至少一个设计为衍射光学元件，用于仅照明所述照明场(BF)的一部分(T1；T2)。
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