[发明专利]通过气体的单电荷或多电荷离子束处理制备抗反射玻璃材料的方法

摘要

使用电子回旋共振(ECR)源产生的单电荷和多电荷的气体离子束处理玻璃材料的方法，其中‑离子加速电压为5kV‑1000kV以产生厚度等于100nm的倍数的注入层；‑每表面单位的离子剂量为1012个离子/cm2‑1018个离子/cm2，以产生等于10％的离子的原子浓度，其中不确定度水平为(+/‑)5％。有利地，这可以获得由玻璃制成的在可见区中非反射的材料。

主权项

用于在玻璃材料的可见区中的持久抗反射处理的方法，其特征在于所述方法由气体的单电荷和多电荷离子束轰击组成，其中所述离子束由电子回旋共振(ECR)源产生，其中：‑由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子束包含10％的多电荷离子或大于10％的多电荷离子；‑用于处理玻璃材料的温度小于或等于玻璃转变温度；‑注入每单位表面积的由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子剂量为1012个离子/cm2‑1018个离子/cm2，以获得由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子的原子浓度，使得注入层的折射率n等于(n1*n2)1/2，其中n1是空气指数，n2是玻璃指数；‑所述单电荷和多电荷离子的加速电压为5kV‑1000kV，以获得t等于p*λ/4*n的注入厚度，其中t是对应于注入范围的注入厚度，其中所述注入范围内注入的由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子的原子浓度大于或等于1％，p是整数，λ是入射波长，n是注入层指数。