[发明专利]通过气体的单电荷或多电荷离子束处理制备抗反射玻璃材料的方法

权利要求书

1.用于在玻璃材料的可见区中的持久抗反射处理的方法，其特征在于所述方法由气体的单电荷和多电荷离子束轰击组成，其中所述离子束由电子回旋共振(ECR)源产生，其中：

-由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子束包含10％的多电荷离子或大于10％的多电荷离子；

-用于处理玻璃材料的温度小于或等于玻璃转变温度；

-注入每单位表面积的由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子剂量为10¹²个离子/cm²-10¹⁸个离子/cm²，以获得由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子的原子浓度，使得注入层的折射率n等于(n1*n2)^1/2，其中n1是空气指数，n2是玻璃指数；

-所述单电荷和多电荷离子的加速电压为5kV-1000kV，以获得t等于p*λ/4*n的注入厚度，其中t是对应于注入范围的注入厚度，其中所述注入范围内注入的由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子的原子浓度大于或等于1％，p是整数，λ是入射波长，n是注入层指数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子选自氦(He)、氖(Ne)、氩(Ar)、氪(Kr)和氙(Xe)元素的离子。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子选自氮(N₂)和氧(O₂)气体的离子。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于选择所述单电荷和多电荷离子的加速电压以获得等于p*100nm的注入厚度，其中p是整数。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于选择每单位表面积注入的由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子的剂量以实现等于10％的注入离子的原子浓度，其中不确定度为(+/-)5％。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于每单位表面积注入的由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子的剂量的选择和所述单电荷和多电荷离子的加速电压的选择通过预先进行的计算进行，使得可以从所选择离子的注入特征作为注入深度的函数开始评价每单位表面积注入的由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子的剂量，以实现等于10％的注入离子的原子浓度，其中不确定度为(+/-)5％。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述玻璃材料相对于由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子束可以以0.1mm/s-1000mm/s的速度V_D移动。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于所述玻璃材料的一个且相同的区域根据通路的多重性N在由所述ECR源发射的所述气体的单电荷和多电荷离子束下以速度V_D移动。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述玻璃材料选自苏打-石灰玻璃列表。

10.根据权利要求1所述的处理方法用于处理选自触摸屏、眼镜片、光学装置的透镜、建筑物的窗户或光学纤维的玻璃块部分的用途。