[发明专利]通过可调整的分离墙进行的气体分离有效
| 申请号： | 201480006989.5 | 申请日： | 2014-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN104968831B | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | H-G·洛茨;N·莫里森;J·M·迭戈兹-坎波;H·兰格拉夫;T·斯托利;S·海恩;F·里斯;W·布施贝克 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 徐伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种用于涂布薄膜于柔性基板上的设备。此设备包括涂布鼓轮及气体分离单元，涂布鼓轮具有外表面，用于导引柔性基板通过第一真空处理区域及至少一第二真空处理区域，气体分离单元用于分离第一真空处理区域与至少一第二真空处理区域，且适用于形成狭缝，柔性基板可通过涂布鼓轮的外表面与气体分离单元之间的所述狭缝，其中气体分离单元适用于通过调整气体分离单元的位置来控制在第一处理区域与第二处理区域之间的流体连通。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 可调整 分离 进行 气体 | ||
【主权项】：
1.一种用于涂布薄膜于基板上的设备，包括：基板支撑件，具有外表面，用于导引所述基板通过第一真空处理区域及至少一第二真空处理区域；以及气体分离单元，用于分离所述第一真空处理区域与所述至少一第二真空处理区域，且适用于形成狭缝，所述基板可通过所述基板支撑件的所述外表面与所述气体分离单元之间的所述狭缝；其中所述气体分离单元适用于控制在所述第一真空处理区域与所述第二真空处理区域之间的流体连通，其中所述流体连通通过调整所述气体分离单元的位置来控制，并且其中所述气体分离单元固定于沉积源的主体。
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