[发明专利]使用自组装的聚合物纳米掩模的表面纳米制造方法在审

专利信息
申请号: 201480005862.1 申请日: 2014-01-21
公开(公告)号: CN105229530A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: M·A·恰萨达;J·王;张盈 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 项丹;郭辉
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于制造纳米柱化基材表面的方法包括把包含两性嵌段共聚物和亲水均聚物的聚合物溶液施涂到基材表面。聚合物溶液中的两性嵌段共聚物和亲水均聚物在基材表面上进行自组装以形成自组装的聚合物层,该自组装的聚合物层包括与基材表面相邻的疏水结构域和延伸进入自组装的聚合物层的亲水结构域。可去除至少一部分的亲水结构域,从而在自组装的聚合物层的暴露的表面中形成多个孔。可将保护层沉积在暴露的表面作为掩模,用于通过多个孔蚀刻来形成通孔。可通过通孔把形成纳米柱的材料沉积到基材表面上。然后,可去除自组装的聚合物层的其余部分,来暴露纳米柱化基材表面。
搜索关键词: 使用 组装 聚合物 纳米 表面 制造 方法
【主权项】:
一种用于制造纳米柱化基材表面的方法,所述方法包含:把聚合物溶液施涂到基材的基材表面,所述聚合物溶液包含:具有疏水嵌段和亲水嵌段的两性嵌段共聚物;与所述两性嵌段共聚物的所述亲水嵌段化学相容的亲水均聚物;和施涂溶剂,去除施涂溶剂,从而导致所述聚合物溶液中的所述两性嵌段共聚物和所述亲水均聚物在所述基材表面上进行自组装来形成自组装的聚合物层,所述自组装的聚合物层包含与基材表面相邻的疏水结构域以及亲水结构域,该亲水结构域从与所述基材表面相对的所述自组装的聚合物层的暴露的表面延伸进入自组装的聚合物层;去除至少一部分的所述亲水结构域,从而在所述自组装的聚合物层的所述暴露的表面中形成多个孔;在所述暴露的表面上沉积保护层;通过所述多个孔蚀刻,以形成通过所述自组装的聚合物层到达所述基材表面的通孔;通过所述通孔把形成纳米柱的材料沉积到基材表面上;和去除所述自组装的聚合物层来暴露上面具有多个纳米柱的纳米柱化基材表面。
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