[发明专利]光学元件的制造方法以及防反射结构体的制作方法有效
| 申请号： | 201480005050.7 | 申请日： | 2014-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN104937444A | 公开（公告）日： | 2015-09-23 |
| 发明（设计）人： | 平田健一郎 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈蕴辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够在整个非平坦面均匀且容易地制作防反射结构体的光学元件的制造方法。在具有作为宏观的非平坦面的第一光学面(11d)的光学元件即光学构件阵列(100)的制造方法中，具有：将第一光学面(11d)划分为多个区域并针对划分出的多个区域中的第一区域形成岛状的掩模的第一掩模形成工序；对通过第一掩模形成工序形成有岛状的掩模的第一区域进行蚀刻而在第一区域形成防反射结构体(51)的第一蚀刻工序；在第一蚀刻工序后，针对多个区域中的与第一区域不同的第二区域形成岛状的掩模的第二掩模形成工序；以及对通过第二掩模形成工序形成有岛状的掩模的第二区域进行蚀刻而在第二区域形成防反射结构体(51)的第二蚀刻工序。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 以及 反射 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光学元件的制造方法，该光学元件具有宏观的非平坦面，所述光学元件的制造方法的特征在于，具有：第一掩模形成工序，在所述第一掩模形成工序中，将所述宏观的非平坦面划分为多个区域，针对划分出的所述多个区域中的第一区域形成岛状的掩模；第一蚀刻工序，在所述第一蚀刻工序中，对通过所述第一掩模形成工序形成有岛状的掩模的所述第一区域进行蚀刻而在所述第一区域形成防反射结构体；第二掩模形成工序，在所述第一蚀刻工序后，在所述第二掩模形成工序中，针对所述多个区域中的与所述第一区域不同的第二区域形成岛状的掩模；以及第二蚀刻工序，在所述第二蚀刻工序中，对通过所述第二掩模形成工序形成有岛状的掩模的所述第二区域进行蚀刻而在所述第二区域形成防反射结构体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达株式会社，未经柯尼卡美能达株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480005050.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
