[发明专利]光学元件的制造方法以及防反射结构体的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及在光学元件的表面上具有防反射结构体的光学元件的制造方法以及该防反射结构体的制作方法。

背景技术

通常，对于照相机组件等所使用的光学透镜而言，为了降低由表面反射引起的重影、耀斑而实施了防反射加工。作为最常用的防反射加工，存在设置被称为防反射膜的光学薄膜的方法(例如参照专利文献1)。

另外，作为其他的防反射加工方法，存在设置防反射结构体的方法。防反射结构体是在透镜等光学元件的表面制作了光的波长级其他的凹凸形状或宏观上看密度低的部分的结构体，以减少反射。在防反射结构体的制作方法中存在如下方法：在将要进行成形的金属模中制作防反射结构的凹模，在成形时转印防反射结构(例如参照专利文献2)。另外，在防反射结构体的制作方法中存在如下方法：在通过蒸镀而在基板上形成岛状的图案掩模后进行蚀刻(例如参照专利文献3)。进而存在如下方法：将单粒子膜移到基板上，将该单粒子膜作为掩模进行蚀刻(例如参照专利文献4)。

如专利文献2的方法那样，在作为制作结构体的方法而使用金属模的情况下存在如下问题等：因与树脂的粘接面积增加而产生由脱模不良或金属模的劣化导致的光学元件的非均质、金属模制作复杂且成本非常高。

另外，专利文献3的方法适合于平坦面的掩模形成，但对于曲率比较大的光学面而言，难以在不同的面角度中均匀地形成掩模，难以在不同的面角度中均匀地形成岛状的掩模。因此，例如难以在整个曲面均匀地制作微细的凹凸结构。另外，对于专利文献4的方法而言，难以将单粒子膜均匀地涂敷在曲面上，单粒子膜的转移工序也费事。

另外，作为与光学元件的制造相关联的技术，存在如下方法：通过将光致抗蚀剂用作掩模来形成透镜面(例如参照专利文献5)。在该方法中，与透镜的光学面的曲面相应地使曝光光倾斜来形成具有目标厚度分布的抗蚀剂掩模，并通过干蚀刻等蚀刻来形成防反射结构体。虽然可考虑应用上述方法在曲面上形成掩模，但当随着曝光光的入射角度增大，光强度降低，因此，因曝光光的入射角度而使得抗蚀剂的膜厚不同，难以均匀地形成掩模。另外，需要与曲面相应地使光源倾斜，导致装置复杂。而且，掩模形成作业费事，若一个一个地加工透镜，则成本高。此外，虽然也可以考虑利用EB(Electron Beam：电子束)描绘方式在基材的表面上制作防反射结构体的方法，但在可行性、成本方面存在问题。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2010-519881号公报

专利文献2：日本特开2005-31538号公报

专利文献3：日本特表2010-511079号公报

专利文献4：日本特开2009-034630号公报

专利文献5：日本特开2004-309794号公报

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够在整个非平坦面上均匀且容易地制作防反射结构体的光学元件的制造方法。

另外，本发明的目的在于提供一种上述防反射结构体的制作方法。

为了解决上述课题，本发明的光学元件的制造方法是具有宏观的非平坦面的光学元件的制造方法，具有：第一掩模形成工序，在所述第一掩模形成工序中，将宏观的非平坦面划分为多个区域，针对划分出的多个区域中的第一区域形成岛状的掩模；第一蚀刻工序，在所述第一蚀刻工序中，对通过第一掩模形成工序形成有岛状的掩模的第一区域进行蚀刻而在第一区域形成防反射结构体；第二掩模形成工序，在第一蚀刻工序后，在所述第二掩模形成工序中，针对多个区域中的与第一区域不同的第二区域形成岛状的掩模；以及第二蚀刻工序，在所述第二蚀刻工序中，对通过第二掩模形成工序形成有岛状的掩模的第二区域进行蚀刻而在第二区域形成防反射结构体。在此，宏观的非平坦面指的是曲面(也可以是曲率相对大的面)或者包括面角度大的面在内的复合面等。另外，第一区域以及第二区域是对通过一次掩模形成工序、蚀刻工序进行岛状的掩模形成、蚀刻的区域进行的总称。即，即便事实上被分割为多个区域，只要通过一次掩模形成工序、蚀刻工序进行岛状的掩模形成、蚀刻，则也可以作为一个区域进行把握。