[实用新型]光刻胶纳米压印复合模板有效
| 申请号： | 201420812246.4 | 申请日： | 2014-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN204287726U | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 史晓华 | 申请（专利权）人： | 苏州光舵微纳科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人： | 魏亮芳 |
| 地址： | 215513 江苏省苏州市常熟市常熟*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻胶纳米压印复合模板，其包括：基板；光刻胶层，其设置于基板上，该光刻胶层的表面具有压印结构。本实用新型与现有技术相比，可以降低制造成本，并且提高纳米压印复合模板的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 纳米 压印 复合 模板 | ||
【主权项】：
光刻胶纳米压印复合模板，其特征在于，包括：基板；光刻胶层，其设置于所述基板上，所述光刻胶层的表面具有压印结构。
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